開始剤修飾ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド及びその製造方法、グラフト化ナノロッド分散液晶、グラフト化ナノロッド分散液晶配向膜、偏光光学素子、並びに、キャップ剤修飾ナノロッド

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：特許業務法人セントクレスト国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-021715
公開番号（公開出願番号）：特開2014-152213
出願日： 2013年02月06日
公開日（公表日）： 2014年08月25日
要約：

【課題】開始剤被覆量を高度に制御することでき、かつ、開始剤被覆量を非破壊で直接定量することができる開始剤修飾ナノロッドの製造方法を提供すること。【解決手段】平均アスペクト比が1.2以上であるナノロッドの表面の一部にキャップ剤を結合させることによって前記ナノロッドの表面の一部に前記キャップ剤が結合したキャップ剤修飾ナノロッドを得る工程と、前記キャップ剤修飾ナノロッドを得る工程の後に、前記ナノロッドの前記キャップ剤が結合していない表面に重合開始基を有する開始剤を結合させることによって前記ナノロッドの表面に前記キャップ剤及び前記開始剤が結合した開始剤修飾ナノロッドを得る工程と、を含むことを特徴とする開始剤修飾ナノロッドの製造方法。【選択図】図1A

請求項（抜粋）：

平均アスペクト比が1.2以上であるナノロッドの表面の一部にキャップ剤を結合させることによって前記ナノロッドの表面の一部に前記キャップ剤が結合したキャップ剤修飾ナノロッドを得る工程と、前記キャップ剤修飾ナノロッドを得る工程の後に、前記ナノロッドの前記キャップ剤が結合していない表面に重合開始基を有する開始剤を結合させることによって前記ナノロッドの表面に前記キャップ剤及び前記開始剤が結合した開始剤修飾ナノロッドを得る工程と、を含むことを特徴とする開始剤修飾ナノロッドの製造方法。

IPC (2件)：

C08F 292/00 , C08F 2/44

FI (2件)：

C08F292/00 , C08F2/44 A

Fターム (14件)：

4J011PA07 , 4J011PB04 , 4J011PB22 , 4J011PB40 , 4J011PC02 , 4J011PC08 , 4J026BA30 , 4J026CA07 , 4J026DB02 , 4J026DB11 , 4J026DB25 , 4J026DB30 , 4J026DB32 , 4J026DB40

引用特許：

審査官引用 (7件)

無機骨格を有する高分子修飾ハイブリッドナノ粒子及びその合成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-214245 出願人：国立大学法人東北大学
樹脂組成物とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-338087 出願人：日産自動車株式会社, 三菱化学株式会社
液晶相溶性ナノロッドとその製造方法及び液晶媒体並びに液晶素子
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-112789 出願人：有限会社ナノオプト研究所

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