特許

J-GLOBAL ID：201403093185799755

化合物、光硬化性組成物、硬化物、これを用いた、パターン形状を有する膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法

発明者： 伊藤 俊樹 ,  本間 猛 ,  米澤 詩織 ,  佐藤 仁至 ,  川▲崎▼ 陽司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-096145
公開番号（公開出願番号）：特開2014-237632
出願日： 2014年05月07日
公開日（公表日）： 2014年12月18日
要約：

【課題】光ナノインプリント法のレジストにおいて、光硬化性組成物の高い光硬化速度と硬化物の低いモールドとの離型力を実現する化合物の提供。【解決手段】下式で示されるフルオロアルキル化された(ポリ)オキシアルキレン基を有するアミン化合物。(Rfは少なくとも一部がフッ素原子で置換されたアルキル基;ROはオキシアルキレン基若しくはオキシアルキレン基の繰り返し構造;RAはC1〜5のアルキル基;RBはアルキル基若しくはH。)前記オキシアルキレン基がオキシエチレン基若しくはオキシプロピレン基の繰り返し構造であるアミン化合物【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)に示される化合物。 一般式(1)

IPC (5件)：

C07C 217/08 ,  C08F 2/48 ,  B29C 39/02 ,  B29C 59/02 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C07C217/08 ,  C08F2/48 ,  B29C39/02 ,  B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D

Fターム (48件)：

4F204AA44 ,  4F204AB03 ,  4F204AC05 ,  4F204AF01 ,  4F204AG05 ,  4F204AH33 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EF01 ,  4F204EF27 ,  4F204EK17 ,  4F204EK18 ,  4F204EK24 ,  4F209AA16A ,  4F209AA44A ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AM30 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN07 ,  4F209PN09 ,  4H006AA01 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BP10 ,  4H006BU32 ,  4J011AA03 ,  4J011AA06 ,  4J011AC04 ,  4J011PA36 ,  4J011PB40 ,  4J011PC02 ,  4J011PC08 ,  4J011QA03 ,  4J011QA12 ,  4J011SA00 ,  4J011TA08 ,  4J011TA10 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA01 ,  5F146AA33 ,  5F146AA34

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-172944
  
• 特開昭49-110615
  
• 光ナノインプリント用硬化性組成物、硬化物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-284518   出願人：富士フイルム株式会社
• インプリント用硬化性組成物、硬化物および硬化物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-270140   出願人：富士フイルム株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Journal of Fluorine Chemistry, 2006, Vol. 127, pp. 1496-1504