特許
J-GLOBAL ID：201403094319913025

インプリント装置および物品の製造方法

発明者：
田中 悠輔

田中 悠輔 について

, 
鳥居 弘稔

鳥居 弘稔 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-078096
公開番号（公開出願番号）：特開2013-254938
出願日： 2013年04月03日
公開日（公表日）： 2013年12月19日
要約：
【課題】インプリント装置において、モールドのパターンを精度よく基板に転写するために有利な技術を提供する。【解決手段】パターンが形成されたモールドを基板上の樹脂に押し付けた状態で前記樹脂を硬化させ、前記基板上にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記モールドの側面に接触する接触面を有する接触部材を含み、当該接触部材を介して前記モールドの側面に力を加え、前記モールドに形成されたパターンの形状を変更させる変更部と、前記モールドの側面と前記接触面との接触状態を調整するように、前記接触部材の角度および位置のうち少なくとも一方を調整する調整部と、を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
パターンが形成されたモールドを基板上の樹脂に押し付けた状態で前記樹脂を硬化させ、前記基板上にパターンを転写するインプリント処理を行うインプリント装置であって、 前記モールドの側面に接触する接触面を有する接触部材を含み、当該接触部材を介して前記モールドの側面に力を加え、前記モールドに形成されたパターンの形状を変更させる変更部と、 前記モールドの側面と前記接触面との接触状態を調整するように、前記接触部材の角度および位置のうち少なくとも一方を調整する調整部と、 を含むことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (17件)：
4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AP06 ,  4F209AP11 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  5F146AA31 ,  5F146AA32 ,  5F146CC09 ,  5F146CC13 ,  5F146DA06 ,  5F146EB01 ,  5F146EB02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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