水素発生装置及び水素発生方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：長谷川芳樹 , 諏澤勇司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-042860
公開番号（公開出願番号）：特開2014-169210
出願日： 2013年03月05日
公開日（公表日）： 2014年09月18日
要約：

【課題】外部装置を必要とせずに水の酸化還元反応を効率的に誘起させることが可能な水素発生装置を提供すること。【解決手段】この水素発生装置1は、光触媒材料を含む基板9と、基板9の一方の面9aに沿って複数領域に分離して配置された金属体11と、基板9の一方の面9aと反対側の他方の面9bに配置された水素発生触媒13とを備える。このような水素発生装置1により、金属体11の微細構造によって決まるプラズモン共鳴の波長域において水の光電気分解が効率よく行われると同時に、水素発生触媒13によっても水の還元反応が効率的に行われる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

光触媒材料を含む基板と、前記基板の一方の面に沿って複数領域に分離して配置された金属体と、前記基板の前記一方の面と反対側の他方の面に配置された水素発生触媒と、を備えることを特徴とする水素発生装置。

IPC (3件)：

C01B 3/04 , B01J 35/02 , B01J 23/68

FI (3件)：

C01B3/04 A , B01J35/02 J , B01J23/68 M

Fターム (27件)：

4G169AA02 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169AA12 , 4G169BA48A , 4G169BB02A , 4G169BB02B , 4G169BB06A , 4G169BB06B , 4G169BC12A , 4G169BC12B , 4G169BC33A , 4G169BC33B , 4G169BC50A , 4G169BC50B , 4G169BC55B , 4G169BC75A , 4G169BC75B , 4G169CC33 , 4G169DA05 , 4G169EA11 , 4G169EB18Y , 4G169FA01 , 4G169FB02 , 4G169HB01 , 4G169HB06 , 4G169HE09

引用特許：

審査官引用 (4件)

水光分解用のモノリス触媒システム
公報種別：公表公報出願番号：特願2010-530362 出願人：ツェーエフエスオー・ゲーエムベーハー
水素製造装置および水素製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-274566 出願人：シャープ株式会社
可視光活性光触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-064162 出願人：本多崇

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