特許
J-GLOBAL ID：201403096696588212

熱処理装置

発明者：
浅利 伸二

浅利 伸二 について

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佐藤 英和

佐藤 英和 について

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塩原 伴弘

塩原 伴弘 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-138510
公開番号（公開出願番号）：特開2014-003203
出願日： 2012年06月20日
公開日（公表日）： 2014年01月09日
要約：
【課題】処理容器の下部に粉体や液状の堆積物が付着することを抑制することが可能な熱処理装置を提供する。【解決手段】周囲に加熱手段56が設けられた縦型の処理容器4内にその下方から上方に向けて不活性ガスを流しつつ保持手段に保持された複数枚の被処理体Wに対して熱処理を施すようにした熱処理装置2において、不活性ガスを供給するガス供給系60は、不活性ガスを流す不活性ガス流路62と、不活性ガス流路に設けられて不活性ガスを加熱する不活性ガス加熱部68と、不活性ガス加熱部に設けられた第1の温度測定手段70と、第1の温度測定手段の測定値に基づいて不活性ガス加熱部を制御する温度制御部59とを備える。これにより、処理容器の下部に粉体や液状の堆積物が付着することを抑制する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
周囲に加熱手段が設けられた縦型の処理容器内にその下方から上方に向けて不活性ガスを流しつつ保持手段に保持された複数枚の被処理体に対して熱処理を施すようにした熱処理装置において、 前記不活性ガスを供給するガス供給系は、 前記不活性ガスを流す不活性ガス流路と、 前記不活性ガス流路に設けられて前記不活性ガスを加熱する不活性ガス加熱部と、 前記不活性ガス加熱部に設けられた第1の温度測定手段と、 前記第1の温度測定手段の測定値に基づいて前記不活性ガス加熱部を制御する温度制御部と、 を備えたことを特徴とする熱処理装置。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 567
Fターム (4件)：
5F146DB02 ,  5F146KA04 ,  5F146KA05 ,  5F146KA10
引用特許：
審査官引用 (4件)
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