特許
J-GLOBAL ID:201403097194010710

過酸化水素の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (10件): 特許業務法人 津国 ,  津国 肇 ,  柳橋 泰雄 ,  伊藤 佐保子 ,  川田 秀美 ,  安藤 雅俊 ,  柴 大介 ,  杉本 将市 ,  角野 ゆり子 ,  齋藤 房幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-154206
公開番号(公開出願番号):特開2014-015353
出願日: 2012年07月10日
公開日(公表日): 2014年01月30日
要約:
【課題】精製の負荷が過剰にならず、過大な製造設備を必要とせずに、工業的、経済的に満足できるレベルで過酸化水素を製造することができる方法を提供すること。【解決手段】反応媒体中、貴金属触媒及びラジカル捕捉剤の存在下で水素と酸素を反応させる、過酸化水素の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
反応媒体中、貴金属触媒及びラジカル捕捉剤の存在下で水素と酸素を反応させる、過酸化水素の製造方法。
IPC (2件):
C01B 15/029 ,  B01J 23/52
FI (2件):
C01B15/029 ,  B01J23/52 M
Fターム (27件):
4G169AA03 ,  4G169BA01A ,  4G169BA02A ,  4G169BA03A ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA05A ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC16A ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC33B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC51A ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BD02A ,  4G169BD02B ,  4G169BD05A ,  4G169CB81 ,  4G169DA05 ,  4G169EA02Y
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献:
出願人引用 (2件)
  • TiO2担持Pd-Au触媒によるH2からの直接H2O2合成
  • “ラジカル捕捉剤”
審査官引用 (2件)
  • TiO2担持Pd-Au触媒によるH2からの直接H2O2合成
  • “ラジカル捕捉剤”

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