特許
J-GLOBAL ID：201403099336931012
遮光フィルムとその製造方法、および、それを用いた絞り、シャッター羽根、光量調整絞り羽根
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河備 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-022958
公開番号（公開出願番号）：特開2014-153522
出願日： 2013年02月08日
公開日（公表日）： 2014年08月25日
要約：
【課題】カメラ付き携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのレンズシャッターなどの絞り、シャッター羽根または絞り羽根やプロジェクターの光量調整用絞り羽根などの光学機器部品として用いられ、遮光性、低反射性、摺動性、導電性、耐熱・耐高温高湿性に優れた遮光フィルムとその製造方法を提供する。【解決手段】表面粗さが算術平均高さRaで0.2〜2.2μmである樹脂フィルム基材(A)と、樹脂フィルム基材(A)の片面もしくは両面にスパッタリング法で膜厚が50〜250nmのNi系金属膜(B)が形成され、Ni系金属膜(B)上に、膜厚が100〜400nmである結晶性のNi系金属酸化物膜(C)が形成された遮光フィルムであって、Ni系金属膜(B)の酸素含有量がO/Ni原子数比で0.20以下、かつNi系金属膜(B)の酸素含有量がO/Ni原子数比で0.65〜0.85であり、波長380〜780nmにおける最小光学濃度が4以上、最大正反射率が0.4%以下であることを特徴とする遮光フィルムなどにより提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
表面粗さが算術平均高さRaで0.2〜2.2μmである樹脂フィルム基材(A)と、樹脂フィルム基材(A)の片面もしくは両面にスパッタリング法で膜厚が50〜250nmのNi系金属膜(B)が形成され、Ni系金属膜(B)上に、膜厚が100〜400nmである結晶性のNi系金属酸化物膜(C)が形成された遮光フィルムであって、
Ni系金属膜(B)の酸素含有量がO/Ni原子数比で0.20以下、かつNi系金属膜(B)の酸素含有量がO/Ni原子数比で0.65〜0.85であり、波長380〜780nmにおける最小光学濃度が4以上、最大正反射率が0.4%以下であることを特徴とする遮光フィルム。
IPC (3件)：
G03B 9/02
, G02B 5/00
, G03B 9/10
G03B9/02 A
, G02B5/00 A
, G02B5/00 Z
, G03B9/10 A
2H042AA06
, 2H042AA13
, 2H042AA22
, 2H080AA08
, 2H080AA10
, 2H080AA16
, 2H080DD00
, 2H081AA42
