特許
J-GLOBAL ID：201003078529014959
耐熱遮光フィルムの製造方法及び耐熱遮光フィルム
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
篠原 泰司
, 藤中 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-160192
公開番号（公開出願番号）：特開2010-001518
出願日： 2008年06月19日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：
【課題】反応性ガスによって金属ターゲット表面に急激な酸化物層が形成されることを抑え、反応性スパッタリングで金属酸化物組成の金属酸化物膜を再現性よく形成し、380〜780nmの可視光域において高遮光性、低反射率化、低光沢化が達成された耐熱遮光フィルムを提供すること。【解決手段】耐熱性の樹脂フィルム上に金属膜を形成し、さらに金属膜上に金属酸化物膜を順次形成する耐熱遮光フィルムの製造方法において、金属膜を形成した後、金属膜の成膜に用いた金属ターゲットのスパッタリングを停止することなく、連続的に金属酸化物膜形成のために所定の反応性ガス流量/スパッタリングガス流量比により所定時間、初段プレスパッタリング、中段プレスパッタリング及び後段プレスパッタリングを順次行い、後段プレスパッタリング終了時のガス流量比で本スパッタリングを行うようにした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
耐熱性の樹脂フィルム上に金属膜を形成し、さらに該金属膜上に金属酸化物膜を順次形成してなる耐熱遮光フィルムの製造方法において、
前記金属膜を形成した後、該金属膜の成膜に用いた金属ターゲットのスパッタリングを停止することなく、連続的に金属酸化物膜形成のための初段プレスパッタリング、中段プレスパッタリング及び後段プレスパッタリングを順次行い、
初段プレスパッタリングでは、反応性ガス流量/スパッタリングガス流量比(以下、「ガス流量比」と称する場合もある。)を、初段プレスパッタリング開始時から単調に増加させてプレスパッタリングを行い、全プレスパッタリング時間の1/5の時にガス流量比が13%以下となるようにして初段プレスパッタリングを終了し、
次段階の中段プレスパッタリングでは、初段プレスパッタリング終了時となる全プレスパッタリング時間の1/5の時の反応性ガス流量/スパッタリングガス流量比から単調に増加させてプレスパッタリングを行い、全プレスパッタリング時間の1/2の時にガス流量比が13〜20%の範囲となるようにして中段プレスパッタリングを終了し、
さらに、次段階の後段プレスパッタリングでは、中段プレスパッタリング終了時となる全プレスパッタリング時間の1/2の時の反応性ガス流量/スパッタリングガス流量比から単調に増加させプレスパッタリングを行い、プレスパッタリング終了時に本スパッタリング時と同じガス流量比である20〜25%の範囲になるようにして後段プレスパッタリングを終了し、
後段プレスパッタリング終了時の反応性ガス流量/スパッタリングガス流量比で本スパッタリングを行うようにしたことを特徴とする耐熱遮光フィルムの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (15件)：
4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BA25
, 4K029BA43
, 4K029BB02
, 4K029BB04
, 4K029BC07
, 4K029CA05
, 4K029CA06
, 4K029DA06
, 4K029DC12
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 4K029EA03
, 4K029EA05
出願人引用 (2件)
-
特公平7-68615号公報
-
遮光羽根材料
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-327284
出願人：日本電産コパル株式会社
審査官引用 (11件)
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