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J-GLOBAL ID：201502201534000818   整理番号：15A1005355

内部シェル照射による放射線感受性新規高分子レジスト材料の選択的フラグメンテーション

Selective Fragmentation of Radiation-Sensitive Novel Polymeric Resist Materials by Inner-Shell Irradiation

著者 (6件)： CHAGAS Gabriela Ramos (UFRGS, Rio Grande do Sul, BRA) ,  SATYANARAYANA V. S. V. (Indian Inst. of Technol. Mandi, Himachal Pradesh, IND) ,  KESSLER Felipe (Federal Univ. Rio Grande, Rio Grande do Sul, BRA) ,  BELMONTE Guilherme Kretzmann (UFRGS, Rio Grande do Sul, BRA) ,  GONSALVES Kenneth E. (Indian Inst. of Technol. Mandi, Himachal Pradesh, IND) ,  WEIBEL Daniel Eduardo (UFRGS, Rio Grande do Sul, BRA)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 7  号： 30  ページ： 16348-16356  発行年： 2015年08月05日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外線(EUV)リソグラフィー用の高分子薄膜に関して,照射後に起こる過程を良く理解することは高分子の選択的な表面修飾を生み出すことを選択してバルクの性質を無傷に保つ正しい励起エネルギーを将来的に可能にする。ここでは,EUV吸収増強単位としてホモポリマ及び共重合体構造中にスルホニウムとトリフラート基を有するホモポリマ及び共重合体からなる炭素内部シェルに関する詳細研究を示した。1-(4-(メタクロイルオキシ)ナフタレン-1-イル)テトラヒドロチオフェニュムトリフルオロメタンスルホナート(MANTMS)及びメタクリレート共重合体(MANTMS-MMA)を選択的炭素内部シェル励起エネルギーを照射して,酸素雰囲気のもとで表面酸化後に光分解過程を調べた。主な知見はナフチル官能基のπ^*_C=C励起のもとで主に結合切断の高選択的過程である。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  紫外線照射 ,  *フォトレジスト ,  機能材料 ,  機能性高分子 ,  *フラグメンテーション ,  *開裂反応 ,  *光化学反応 ,  放射線感受性 ,  硫黄複素環化合物 ,  ラジカル反応 ,  共重合 ,  重合開始剤 ,  光分解 ,  光酸化 ,  *フォトリソグラフィー ,  励起エネルギー ,  シンクロトロン放射 ,  重合体 ,  オレフィン化合物 ,  カルボン酸エステル ,  脂肪族カルボン酸 ,  不飽和カルボン酸 ,  ポリメタクリル酸 ,  集積回路 ,  表面改質 ,  表面処理
準シソーラス用語： チオフェン誘導体 ,  ホモポリマ ,  メタクリル酸メチル誘導体 ,  ラジカル共重合 ,  機能性高分子材料 ,  *極端紫外線リソグラフィー ,  結合切断 ,  *光フラグメンテーション ,  表面修飾 ,  表面酸化

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： シェル ,  放射線感受性 ,  高分子 ,  レジスト材料 ,  フラグメンテーション