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J-GLOBAL ID：201502202099143217   整理番号：15A1044315

酸素プラズマを用いたALDアルミナ膜の基板温度依存性

著者 (7件)： 和泉慶彦 (東京工大) ,  福井僚 (東京工大) ,  中村嘉基 (東京工大) ,  若林整 (東京工大) ,  筒井一生 (東京工大) ,  岩井洋 (東京工大) ,  角嶋邦之 (東京工大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 76th  ページ： ROMBUNNO.13A-4C-5  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： プラズマ ,  *化学蒸着 ,  薄膜成長 ,  *酸化アルミニウム ,  基板温度 ,  温度依存性 ,  二酸化ケイ素 ,  *薄膜コンデンサ
準シソーラス用語： MOSコンデンサ ,  *原子層堆積 ,  酸素プラズマ

分類 (1件)： LCR部品  (NA05030D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸素プラズマ ,  ALD ,  アルミナ膜 ,  温度依存性