文献

J-GLOBAL ID：201502202117017011   整理番号：15A0876613

nc-Si:H膜一様性の測定と超高周波,差動電力を供給したマルチタイルプラズマ源により作製したプラズマ空間構造の診断

Measurement of nc-Si:H film uniformity and diagnosis of plasma spatial structure produced by a very high frequency, differentially powered, multi-tile plasma source

著者 (4件)： MONAGHAN E. (Plasma Res. Lab, School of Physical Sciences & NCPST, Dublin City Univ., Dublin 9, Ireland) ,  YEOM G.Y. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR) ,  ELLINGBOE A.R. (Plasma Res. Lab, School of Physical Sciences & NCPST, Dublin City Univ., Dublin 9, Ireland) ,  ELLINGBOE A.R. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Sungkyunkwan Univ., Suwon 440-746, KOR)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 119  ページ： 34-46  発行年： 2015年09月 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,超高周波,様々な電力を供給した容量結合多重プラズマ源MAMELUKEの特性評価を示す。特に,本研究では,薄膜太陽電池の応用に適したナノ結晶シリコンのプラズマ増強化学蒸着に焦点を合わせた。差動電力を供給したマルチタイル源を使うといくつか利点があるが,プラズマに空間構造が課せられる。差動供給したタイル間の誘電絶縁体部分は電極構造とプラズマ体積への局所ガス供給を邪魔し,いずれも気相化学の一様性プロファイルに寄与する。蒸着膜の一様性を測定して,プラズマ空間構造に対するこれら因子の効果を調べた。MAMELUKE源を使って蒸着した膜を,高い蒸着速度で一様な高品質の膜が大きい面積にわたって作成する能力に焦点を合せて調べた。膜厚と結晶比率の空間分解測定を示した。次に,これら測定結果は,プロセスパラメータを変化したとき,プラズマ一様性の挙動に関する結論を得るため過去の研究で確立された超高周波プラズマ系の既知の挙動と組合せて使った。測定結果は,膜特性の一様性の変化は主に気相化学効果に駆動されることを示す。局所気相化学の変化は,MAMELUKE源における電力とガス供給両方の非一様性の組合せに寄与する。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ナノ結晶 ,  *プラズマCVD ,  半導体薄膜 ,  プラズマ ,  太陽電池 ,  立体構造 ,  プラズマ診断
準シソーラス用語： PECVD ,  *VHFプラズマ ,  空間構造 ,  *水素化シリコン ,  薄膜太陽電池 ,  *容量結合プラズマ

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (12件)： NC ,  Si ,  一様性 ,  超高周波 ,  差動 ,  マルチ ,  タイル ,  プラズマ源 ,  作製 ,  プラズマ ,  空間構造 ,  診断