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J-GLOBAL ID：201502204479576789   整理番号：15A0564584

SiO₂/SiO₂+Cuナノ層薄膜の熱電及び光学特性に対する熱アニールの影響

Effects of Thermal Annealing on the Thermoelectric and Optical Properties of SiO₂/SiO₂+Cu Nanolayer Thin Films

著者 (6件)： BUDAK S. (Alabama A&M Univ., Dep. of Electrical Engineering & Computer Sci., Normal, AL, USA) ,  BAKER M. (Alabama A&M Univ., Dep. of Electrical Engineering & Computer Sci., Normal, AL, USA) ,  LASSITER J. (Alabama A&M Univ., Dep. of Physics, Huntsville, AL, USA) ,  SMITH C. (4 Sight Inc, Huntsville, AL, USA) ,  MUNTELE C. (Cygnus Scientific Services, 35815, Huntsville, AL, USA) ,  JOHNSON R. B. (Alabama A&M Univ., Dep. of Physics, Huntsville, AL, USA)
資料名： Journal of Electronic Materials  (Journal of Electronic Materials)
巻： 44  号： 6  ページ： 1420-1425  発行年： 2015年06月 
JST資料番号： D0277B  ISSN： 0361-5235  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 筆者らは,マグネトロン直流-高周波スパッタリングにより,全体の厚みが約300nmの,SiO₂及びSiO₂+Cuナノ層の36の交互層から成る多ナノ層超格子薄膜系を調製した。それらの熱電及び光学特性を改善するために,膜を,量子ナノドット及び/または量子クラスタを形成するために,1時間,空気中で,500°Cから700°Cの間の温度でアニール炉に入れた。原子間力顕微鏡を,薄膜系の表面を分析するために用いた。系の熱電及び光学特性を,紫外-可視-近赤外吸収,蛍光,及びラマン分光法の研究,及びゼーベック係数の測定により特性化した。ゼーベック係数が,温度が0°Cから700°Cに上昇したとき,-70μV/Kからー100μV/Kに増加した。光吸収スペクトルにより,ナノドット及び/またはナノクラスタの形成が,また,温度が上昇したときに発生することを示した。熱アニールが,多ナノ層の熱電薄膜系の光学及び熱特性にプラス方向に影響した。Copyright 2014 The Minerals, Metals & Materials Society. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化ケイ素 ,  銅 ,  薄膜 ,  *ナノ構造 ,  *超薄膜 ,  *電気特性 ,  *光学的性質 ,  熱処理 ,  ナノクラスタ ,  輸送係数 ,  *ナノシート
準シソーラス用語： *Si酸化物 ,  Cu ,  *ナノ層 ,  *熱電特性 ,  *光学特性 ,  熱アニール ,  ナノドット ,  Seebeck係数

分類 (3件)： その他の無機化合物の電気伝導  (BM03044O) ,  電気的性質  (WB02010Y) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (5件)： SiO2 ,  ナノ層 ,  薄膜 ,  光学特性 ,  熱アニール