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J-GLOBAL ID：201502204838441216   整理番号：15A1073827

スズプラズマの極端紫外線光源におけるイオンとホットアトムの衝撃下の炭素汚染のキャラクタリゼーション

Characterization of carbon contamination under ion and hot atom bombardment in a tin-plasma extreme ultraviolet light source

著者 (7件)： DOLGOV A. (MESA+ Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, Enschede, NLD) ,  LOPAEV D. (Skobeltsyn Inst. of Nuclear Physics, Moscow State Univ., Moscow, RUS) ,  LEE C.J. (MESA+ Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, Enschede, NLD) ,  ZOETHOUT E. (Dutch Inst. for Fundamental Energy Res. (DIFFER), Nieuwegein, NLD) ,  MEDVEDEV V. (MESA+ Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, Enschede, NLD) ,  YAKUSHEV O. (Inst. for Spectroscopy Russian Acad. of Sciences, Moscow, RUS) ,  BIJKERK F. (MESA+ Inst. for Nanotechnology, Univ. of Twente, Enschede, NLD)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 353  ページ： 708-713  発行年： 2015年10月30日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 極端紫外(EUV)リソグラフィ用すれすれ入射コレクタの分子汚染を実験で調べた。炭素膜がパルススズプラズマ放電からの照射下で成長することが分かった。この研究はこの膜が化学的に不活性で,水素化非晶質炭素膜に典型的な特性をもつことを示した。この膜は,数at.%のスズと共に,炭素(約70at.%)と酸素(約20at.%)および水素(酸素と炭素に結合した)からなることを実験で観測した。酸素と水素のほとんどは化学的に炭素に結合したOH基としてほぼ存在し,この膜の形成プロセス中に吸着した水の重要な役割を示している。この膜は大部分が,ダイヤモンド様炭素で典型的なsp³混成炭素であることを観測した。514および264nmの励起下のこの膜のRamanスペクトルは水素化ダイアモンド様炭素に典型的なものであった。さらに,マグネトロンスパッタ炭素膜と比較して,H₂プラズマ中の化学イオンスパッタリングのより低いエッチ速度とより高いエネルギー閾値はこの膜がダイアモンド様炭素の性質を示していることを示唆している。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *スズ ,  *極端紫外線 ,  *光源 ,  フォトリソグラフィー ,  *炭素 ,  *汚染 ,  *DLC膜 ,  Ramanスペクトル ,  プラズマ ,  パルス放電 ,  Zピンチ ,  水素 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  EUVリソグラフィー ,  *極端紫外線光源

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光源  (BD07020D) ,  固体-プラズマ相互作用  (BJ02033W)

タイトルに関連する用語 (8件)： スズ ,  プラズマ ,  極端紫外線光源 ,  イオン ,  ホットアトム ,  衝撃 ,  炭素汚染 ,  キャラクタリゼーション