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J-GLOBAL ID：201502205561537801   整理番号：15A0708826

RFプラズマ重合ヘキサメチルジシラザン薄膜の光熱研究

Photothermal study of RF-plasma polymerized hexamethyldisilazane thin films

著者 (8件)： JIMENEZ-PEREZ J.L. (Unidad Profesional Interdisciplinaria en Ingenieria y Tecnologias Avanzadas, Avenida Instituto Politecnico Nacional ...) ,  ALGATTI M.A. (FEG-DFQ-UNESP, Campus de Guaratingueta, Av. Ariberto Pereira da Cunha 333, CEP: 12516-410 Guaratingueta, S.P., BRA) ,  CRUZ San Martin V. (Escuela Superior de Fisica y Matematicas, Av. Instituto Politecnico Nacional S/N Col. San Pedro Zacatenco, C.P. ...) ,  MOREIRA Junior P.W.P. (FEG-DFQ-UNESP, Campus de Guaratingueta, Av. Ariberto Pereira da Cunha 333, CEP: 12516-410 Guaratingueta, S.P., BRA) ,  MOTA R.R.P. (FEG-DFQ-UNESP, Campus de Guaratingueta, Av. Ariberto Pereira da Cunha 333, CEP: 12516-410 Guaratingueta, S.P., BRA) ,  CORREA Pacheco Z.N. (Unidad Profesional Interdisciplinaria en Ingenieria y Tecnologias Avanzadas, Avenida Instituto Politecnico Nacional ...) ,  CRUZ-OREA A. (Departamento de Fisica, Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del Instituto Politecnico Nacional, Av. ...) ,  SANCHEZ Ramirez J.F. (Centro de Investigacion en Biotecnologia Aplicada, Ex-Hacienda San Juan Molino Carretera Estatal ...)
資料名： Materials Science in Semiconductor Processing  (Materials Science in Semiconductor Processing)
巻： 37  ページ： 223-228  発行年： 2015年09月 
JST資料番号： W1055A  ISSN： 1369-8001  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： RF励起低圧プラズマでのプラズマ重合は,マイクロエレクトロニクス,バイオ材料,航空産業などで応用範囲の広い薄膜を合成する有力技術である。これらの応用の中で,プラズマ重合ヘキサメチルジシラザン(これよりHMDSN)はその生体適合性,光学的電気的性質から有望材料である。本稿は,プローブビーム偏向技術(PBD)を使ったプラズマ重合HMDSN薄膜の熱拡散係数測定を報告する。試料は厚さが170から600nmの範囲で熱的に薄く光学的に透明であり,他の光熱技術(光音響や焦電)での熱キャラクタリゼーションは困難である。ポンプソースとプローブビームにそれぞれダイオード(20mW,λ=640nm)とHeNeレーザ(0.9mW,λ=632nm)を使いPBD測定を行った。プローブビームは試料表面近くに焦点を絞り,その方向はポンプビームと直角である。スキミング構成における横断PBDを採用し,熱拡散係数決定に位相法を用いて偏向信号を解析した。その結果,膜厚が減ると熱拡散係数が減少することが分かった。HMDSN膜の熱拡散係数値が典型的ポリマー試料の範囲であることを本稿で初めて報告した。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： プラズマ重合 ,  *拡散係数 ,  薄膜 ,  電子ビーム偏向 ,  光偏向
準シソーラス用語： 熱拡散係数

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

物質索引 (1件)： HMDS

タイトルに関連する用語 (5件)： RFプラズマ ,  重合 ,  ヘキサメチルジシラザン ,  薄膜 ,  研究