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J-GLOBAL ID：201502205657830233   整理番号：15A1330270

深紫外線光検出器用のNi_1-xMg_xO薄膜に関するラジオ周波数スパッタ蒸着によるバンドギャップ同調

Band gap tuning of Ni_1-xMg_xO films by radio-frequency sputter deposition for deep-ultraviolet photodetectors

著者 (9件)： NISHITANI Hiroki (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  OHTA Kohei (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  KITANO Sosuke (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  HAMANO Ryosuke (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  INADA Mitsuru (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  SHIMIZU Tomohiro (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  SHINGUBARA Shoso (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  KOZUKA Hiromitsu (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  SAITOH Tadashi (Kansai Univ., Osaka, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 8  号： 10  ページ： 105801.1-105801.3  発行年： 2015年10月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ni_0.52Mg_0.48O薄膜に基づいた深紫外線光検出器を,単純なラジオ周波数スパッタリング技法とNi-Mg複合ターゲットとを用いて製造した。Ni_1-xMg_xOバンドギャップは,Mg含量の調節により同調可能であり,Mg含量は,Niターゲット上のMgチップの数の変化により制御できた。Ni_1-xMg_xOの格子定数はMg含量に線形に依存したが,バンドギャップ-M含量のプロットは湾曲を示した。Ni_0.52Mg_0.48O薄膜に基づいて製造した光検出器は,深紫外線光検出器として作動し,波長276nmでピーク応答性を示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *紫外検出器 ,  紫外線 ,  *スパッタ蒸着 ,  *酸化ニッケル ,  ドーピング ,  マグネシウム ,  置換型固溶体 ,  格子定数 ,  X線回折 ,  RFスパッタリング ,  *薄膜 ,  バンドギャップ ,  濃度依存性 ,  感度 ,  ターゲット ,  ニッケル ,  チップ
準シソーラス用語： 酸化物薄膜 ,  深紫外線

分類 (2件)： 測光と光検出器一般  (BD07031F) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (30件)：

• M. R. Luettgen, I. H. Shapiro, and D. M. Reilly, J. Opt. Soc. Am. A 8, 1964 (1991).
• Z. Xu and B. M. Sadler, IEEE Commun. Mag. 46, 67 (2008).
• G. Chen, F. Abou-Galala, Z. Xu, and B. M. Sadler, Opt. Express 16, 15059 (2008).
• Web [http://www.hamamatsu.com/eu/en/product/category/3100/3007/index.html].
• T. Tut, N. Biyikli, I. Kimukin, T. Kartaloglu, O. Aytur, M. S. Unlu, and E. Ozbay, Solid-State Electron. 49, 117 (2005).

タイトルに関連する用語 (7件)： 深紫外線 ,  光検出器 ,  薄膜 ,  ラジオ ,  スパッタ蒸着 ,  バンドギャップ ,  同調