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J-GLOBAL ID：201502207381369807   整理番号：15A1229821

rfパワー伝送線路上の重畳された高周波信号を使うプラズマエッチング容器の条件のモニタリングの実現可能性の研究

Feasibility study of monitoring of plasma etching chamber conditions using superimposed high-frequency signals on rf power transmission line

著者 (2件)： KASASHIMA Y. (Advanced Manufacturing Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 807-1 Tosu, Saga ...) ,  UESUGI F. (Advanced Manufacturing Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 807-1 Tosu, Saga ...)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 86  号： 10  ページ： 105107-105107-5  発行年： 2015年10月 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマエッチング容器の条件の変化を検出できるその場モニタリングシステムを開発した。そのシステムでは,低強度高周波数の信号がプラズマ発生用のrfパワー伝送線路上に重畳される。システムは,反射される高周波信号を測定し,それ等の周波数特性を検出する。その結果は,システムは電極ギャップや内壁に条件の変化によって起こるエッチング容器内の条件の変化を検出することを示し,システムの有効性を証明する。システムは量産用機器に容易に組み込むことが出来,プラズマ放電があっても無くても使うことが出来る。それ故,著者等のシステムは大量生産プラズマエッチング容器のその場モニタリングに適当である。システムには,容器の内壁に堆積する膜をモニタし,量産装置の容器の部品のミスアラインメントによって起こる装置故障を防ぐ予測保守の開発に寄与することが期待される。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *プラズマエッチング ,  監視 ,  伝送線路 ,  容器 ,  その場観察 ,  間隙 ,  電極 ,  保全 ,  *装置 ,  半導体プロセス
準シソーラス用語： 左手系伝送線路 ,  電極ギャップ ,  *半導体製造装置 ,  予測保守

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (9件)： RF ,  パワー ,  伝送線路 ,  重畳 ,  高周波信号 ,  プラズマエッチング ,  モニタリング ,  実現可能性 ,  研究