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J-GLOBAL ID：201502210732873117   整理番号：15A1053779

自己整合二重パターニング用有効な二次元パターン生成

Effective Two-Dimensional Pattern Generation for Self-Aligned Double Patterning

著者 (3件)： IHARA Takeshi (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  TAKAHASHI Atsushi (Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN) ,  KODAMA Chikaaki (Toshiba Corp. Semiconductor & Storage Products Co., Kanagawa, JPN)
資料名： IEEE International Symposium on Circuits and Systems  (IEEE International Symposium on Circuits and Systems)
巻： 2015 Vol.4  ページ： 2141-2144  発行年： 2015年 
JST資料番号： A0757A  ISSN： 0271-4302  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *二次元 ,  *パターン形成 ,  *自己整合 ,  ナノ構造 ,  生産性 ,  *超LSI ,  ウエハ【IC】 ,  フォトリソグラフィー ,  *経路選定 ,  側壁 ,  面積 ,  *通信操作

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 自己整合 ,  二重パターニング ,  パターン生成