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J-GLOBAL ID：201502212753221953   整理番号：15A1343749

3D位相オフセットホログラフィクリソグラフィー用の3準位回折光学素子を形成するための電子ビーム書き込みによる層状ナノグレーティング

Layered nano-gratings by electron beam writing to form 3-level diffractive optical elements for 3D phase-offset holographic lithography

著者 (2件)： YUAN Liang (Leon) (The Edward S. Rogers Sr Dep. of Electrical and Computer Engineering and Inst. for Optical Sciences, Univ. of Toronto ...) ,  HERMAN Peter R.
資料名： Nanoscale  (Nanoscale)
巻： 7  号： 47  ページ： 19905-19913  発行年： 2015年12月21日 
JST資料番号： W2323A  ISSN： 2040-3364  CODEN： NANOHL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多準位ナノフォトニック構造はフォトニック結晶やメタ材料に見られるように先端光学機能性を提供する際の主要は目標である。フォトレジスト内にダイヤモンド様三次元ナノ構造を1回の露光ステップによるホログラフィック生成するために,三準位ナノグレーティング位相マスクを電子ビームレジスト内に作製した。SU-8フォトレジスト内に三次元周期ナノ構造を作り出すため,XとY軸上でπ/2の優先位相シフトをもち,800nm波長で3.5%の十分な一次回折効率をもつ一次回折ビームを生成するための600nm周期性をもつ二次元マスクを提示した。得られた三次元構造はシリコン反転層で8%の完全フォトニックバンドギャップを提供することが期待される。SiO₂層を用いてグレーティング層を分離し,最終レジスト層を多重スピンコーティングにより平坦化した。反転可能なソフトコーティングを導入して,それぞれの絶縁グレーティング層のSEM検査と実証ができるようにした。本電子ビームリソグラフィック法はナノフォトニック構造の多層を構築することにも拡張できる。Copyright 2016 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST

シソーラス用語： *光学素子 ,  電子ビーム ,  蓋 ,  リソグラフィー ,  フォトレジスト ,  *フォトニックバンドギャップ ,  フォトニック結晶 ,  *電子ビームリソグラフィー ,  マスク
準シソーラス用語： 回折光学素子 ,  グレーチング ,  位相マスク

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 3D ,  位相オフセット ,  回折光学素子 ,  電子ビーム ,  書き込み ,  層状 ,  グレーティング