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J-GLOBAL ID：201502214530094464   整理番号：15A0967370

均一スポットサイズを持つ線形変位-角度変換のための湾曲シリコン微小鏡

Curved Silicon Micromirror for Linear Displacement-to-Angle Conversion With Uniform Spot Size

著者 (5件)： SABRY Yasser M. (Univ. Paris-Est, Paris, FRA) ,  SABRY Yasser M. (Ain Shams Univ., Cairo, EGY) ,  KHALIL Diaa (Ain Shams Univ., Cairo, EGY) ,  SAADANY Bassam (Si-Ware Systems, Cairo, EGY) ,  BOUROUINA Tarik (Univ. Paris-Est, Paris, FRA)
資料名： IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics  (IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics)
巻： 21  号： 4  ページ： ROMBUNNO.2800309  発行年： 2015年07月 
JST資料番号： W0734A  ISSN： 1077-260X  CODEN： IJSQEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 入射光ビームの鏡主軸からの変位を反射角へ線形的に変換する非円筒面の湾曲シリコン微小鏡を開発した。この特性を与える表面プロフィルを理論解析により決定した。この微小鏡を深反応性イオンエッチングによりSOI基板に製作し,フォトリソグラフィー過程により表面プロフィルを制御し最適化した。これを200μmのエッチング深度及び90°以上の側壁垂直性をもって達成した。この微小鏡は高い光スループットを持ち,サブミリメートルの焦点距離を示した。これを光ビーム走査器に実装して波長675及び1550nmで測定したとき,120°以上の走査角及び走査中のスポットサイズ均一性(5%以下)が得られた。この微小鏡はMEMS走査器,変位/回転センシング,光学イメージングなどに応用可能性がある。

シソーラス用語： *反射鏡 ,  RIE【エッチング】 ,  プリント基板 ,  フォトリソグラフィー ,  センサ ,  走査装置 ,  *マイクロマシニング ,  *走査 ,  *曲面 ,  Gaussビーム ,  アクチュエータ ,  ビーム技術
準シソーラス用語： SOI基板 ,  *シリコン鏡 ,  *マイクロミラー ,  変位センサ ,  *ビーム走査 ,  DRIE【エッチング】

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光デバイス一般  (BD06010L) ,  レーザ一般  (BD04030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： スポットサイズ ,  線形 ,  変位 ,  湾曲 ,  シリコン ,  微小鏡