両極性型プラズマイオン注入法におけるパルスマグネトロンチタンスパッタプラズマの発光分光特性

東欣吾; 中尾節男; 園田勉; 楠森毅; 尾崎公洋; 木村高志

文献

J-GLOBAL ID：201502214815219961 整理番号：15A0891879

両極性型プラズマイオン注入法におけるパルスマグネトロンチタンスパッタプラズマの発光分光特性

The Optical emission characteristics on pulsed magnetron titanium sputtering plasma with bipolar-type plasma-based ion implantation

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資料名：
巻： PST-15 号： 14-17.19-27 ページ： 57-61 発行年： 2015年06月04日
JST資料番号： Z0951A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

プラズマイオン注入(PBII)によれば,基板表面に高機能な硬質膜を高い密着力をもたせてコーティング可能である。両極性PBIIシステムにおいては,正および負の高電圧パルスを試料支持電極に交互に印加する。正パルス印加時には支持電極近傍にプラズマを生成し,負電圧印加時にプラズマからイオンを引き出して試料に向けて加速注入する。接地マグネトロンスパッタリング源にチタンターゲットを導入すると,電流がスパッタリング源を通じて流れ,プラズマがスパッタリングターゲット前面に生成される。プラズマの発光スペクトルには,多数のチタンイオンの発光ラインが観測される。

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プラズマ応用 , プラズマ診断

引用文献 (18件)：

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J. R. Conrad: “Sheath thickness and potential profiles of ion-matrix sheaths for cylindrical and spherical electrodes,“ J. Appl. Phys., Volume 62, pp. 777-779 (1987)
B. P. Wood, I. Henins, R. J. Gribble, W. A. Reass, R. J. Faehl, M. A. Nastasi, and D. J. Rej : “Initial operation of a large-scale plasma source ion implantation experiment,“ j. Vac. Sci. Technol. B, Volume 12, pp. 870-874 (1994)
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