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J-GLOBAL ID：201502230391133349   整理番号：15A0228613

集束イオンビームミリングを用いたバイオセンサ応用のための窒化シリコン/シリコン上の円錐状微細孔構造の加工

Fabrication of conical micropore structure on silicon nitride/silicon using focused ion beam milling for biosensor application

著者 (5件)： ARIFFIN Nur Hamizah Zainal (Malaysia-Japan International Inst. of Technol., Universiti Teknologi Malaysia, Jalan Semarak, 54100 Kuala Lumpur ...) ,  YAHAYA Hafizal (Malaysia-Japan International Inst. of Technol., Universiti Teknologi Malaysia, Jalan Semarak, 54100 Kuala Lumpur ...) ,  SHINANO Shunji (Res. Lab. for High Voltage Electron Microscopy, Kyushu Univ., 744 Motooka, Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, JPN) ,  TANAKA Satoru (Dep. of Applied Quantum Physics and Nuclear Engineering, Kyushu Univ., 744 Motooka, Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, JPN) ,  HASHIM Abdul Manaf (Malaysia-Japan International Inst. of Technol., Universiti Teknologi Malaysia, Jalan Semarak, 54100 Kuala Lumpur ...)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 133  ページ： 1-5  発行年： 2015年02月05日 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 集束イオンビームミリングを用い流体チャネルおよびセンサ検知膜の支持構造体として機能させるための窒化シリコン/シリコン(Si₃N₄/Si)基板上での円錐状微細孔構造の加工について報告する。研磨,精密研磨そして多段階の集束イオンビーム(FIB)ミリングプロセスを組み合わせて,上部では大口径で下部では小口径(1-2μm)の優れた円錐状構造が得られた。この多段階FIBプロセスでは,いわゆる再堆積現象が避け難く,各ミリングステップごとに先端がとがった構造が形成した。表面粗さを小さくするとミリング領域周囲の形状を改善するのに効果的であった。また,このような円錐状構造にグラフェンを組み込める可能性も示した。この結果は,新世代の分析用プラットフォームに向けて突破口になると期待される。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 細孔 ,  *マイクロマシニング ,  チャネル ,  *集束イオンビーム ,  *バイオセンサ ,  *イオンエッチング ,  窒化ケイ素 ,  ケイ素 ,  グラフェン ,  *マイクロチャネル
準シソーラス用語： イオンミリング ,  シリコン基板 ,  マイクロ加工 ,  *マイクロ流体チャネル ,  円錐形

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  生体計測  (EL03020C)

タイトルに関連する用語 (8件)： 集束イオンビーム ,  ミリング ,  バイオセンサ ,  応用 ,  窒化シリコン ,  シリコン ,  円錐 ,  微細孔