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J-GLOBAL ID：201502239555460955   整理番号：15A0716408

アルキルスルホン化ポリイミドにおけるライオトロピック液晶性により誘起された規則構造とプロトン伝導性の相関関係

著者 (4件)： 後藤崚介 (名大 院) ,  原光生 (名大 院) ,  長尾祐樹 (JAIST) ,  永野修作 (名大 VBL)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 95th  号： 3  ページ： 693  発行年： 2015年03月11日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 主鎖骨格の異なるアルキルスルホン化ポリイミドを合成した。これらのポリイミドは,バルク状態にてラメラ構造由来の散乱を示した。加湿下において,散乱ピークの強度の増大と小角側へのシフトが観察され,最終的にヘキサゴナル相に帰属される散乱パターンとなった。これは,吸湿による規則性の向上とラメラ相からヘキサゴナル相へ転移が起こったと考察でき,本ポリイミドは吸湿による一種のライオトロピック液晶相を示すことがわかった。また,これら薄膜の湿度制御GI-SAXS測定から,プラナー配向したラメラ構造が形成され,湿度上昇とともにラメラ間隔の増大が見られた。当日はプロトン伝導度と液晶構造の相関を検討した結果を報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *スルホン化 ,  *ポリイミド ,  液晶 ,  *誘導 ,  *構造 ,  *電気伝導率 ,  *相関 ,  分子鎖 ,  層状組織 ,  散乱 ,  加湿 ,  強度 ,  小角散乱 ,  規則度 ,  相転移 ,  薄膜 ,  湿度調節 ,  小角X線散乱 ,  層間隔 ,  ジカルボン酸 ,  酸イミド ,  芳香族カルボン酸 ,  芳香族縮合化合物 ,  イミド ,  ケトン ,  窒素複素環化合物 ,  *リオトロピック液晶 ,  高分子膜 ,  ナフタルイミド類 ,  ピーク強度 ,  高分子電解質膜 ,  主鎖 ,  斜入射小角X線散乱 ,  フタルイミド類 ,  *プロトン伝導率
準シソーラス用語： GISAXS ,  フタルイミド誘導体 ,  *プロトン伝導性 ,  プロトン伝導度 ,  *規則構造 ,  湿度制御

分類 (4件)： その他の液晶  (BK03030H) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  その他の高分子材料  (YH07150C) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (7件)： キル ,  スルホン化ポリイミド ,  液晶 ,  誘起 ,  規則構造 ,  プロトン伝導性 ,  相関関係