文献

J-GLOBAL ID：201502245762530246   整理番号：15A0648086

In₂O₃:Sn,SnO₂,及びガラス上のサーモクロミックVO₂膜のスパッタ蒸着:構造・組成対酸素分圧

Sputter deposition of thermochromic VO₂ films on In₂O₃:Sn, SnO₂, and glass: Structure and composition versus oxygen partial pressure

著者 (5件)： MONTERO Jose (Dep. of Engineering Sciences, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., P.O. Box 534, SE-75121 Uppsala, SWE) ,  JI Yu-xia (Dep. of Engineering Sciences, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., P.O. Box 534, SE-75121 Uppsala, SWE) ,  LI Shu-yi (Dep. of Engineering Sciences, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., P.O. Box 534, SE-75121 Uppsala, SWE) ,  NIKLASSON Gunnar A. (Dep. of Engineering Sciences, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., P.O. Box 534, SE-75121 Uppsala, SWE) ,  GRANQVIST Claes G. (Dep. of Engineering Sciences, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., P.O. Box 534, SE-75121 Uppsala, SWE)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 33  号： 3  ページ： 031805-031805-7  発行年： 2015年05月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： VO₂のサーモクロミック薄膜を反応DCマグネトロンスパッタリングにより作成し,原子間力顕微鏡,走査電子顕微鏡,X線回折,吸光分光分析,及び抵抗測定により特性計算した。電気伝導性ITO(すなわち,In₂O₃:Sn)と非伝導性SnO₂の層がある,あるいはないガラス基板上で堆積が起こる。基板条件は大きく影響する。VO₂は,他の基板よりも酸素分圧の著しく幅広いプロセスウィンドウ内でITO上に調製でき,高度に粒状の堆積物が生じた。ITO上のVO₂膜は典型的にいくらか格子圧縮を見せた。著者らの結果はサーモクロミックくすりかけを調製し,実現する上で価値があり,エネルギー効率の良い建築で重要となる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *サーモクロミズム ,  *酸化バナジウム ,  酸化スズ ,  酸化インジウム ,  スズ ,  ドーピング ,  マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  原子間力顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  X線回折分析 ,  吸光分光分析 ,  酸化物 ,  粒状材 ,  金属-絶縁体転移 ,  化学組成
準シソーラス用語： DCマグネトロンスパッタリング ,  導電性酸化物 ,  反応性マグネトロンスパッタリング

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  その他の光学的効果  (BM08040H)

タイトルに関連する用語 (6件)： Sn ,  ガラス ,  VO2 ,  スパッタ蒸着 ,  組成 ,  酸素分圧