シリコン基板および金属被覆基板上での残留層の無い反転ナノインプリントリソグラフィー

FERNANDEZ Ariadna; MEDINA Juan; BENKEL Christian; GUTTMANN Markus; BILENBERG Brian; THAMDRUP Lasse H.; NIELSEN Theodor; SOTOMAYOR Torres Clivia M.; SOTOMAYOR Torres Clivia M.; KEHAGIAS Nikolaos

文献

J-GLOBAL ID：201502277028056045 整理番号：15A0654107

シリコン基板および金属被覆基板上での残留層の無い反転ナノインプリントリソグラフィー

Residual layer-free Reverse Nanoimprint Lithography on silicon and metal-coated substrates

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著者 (10件)：

FERNANDEZ Ariadna

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資料名：

Microelectronic Engineering (Microelectronic Engineering)

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巻： 141 ページ： 56-61 発行年： 2015年06月15日
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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反転ナノインプリントリソグラフィーは実行可能なフレキシブルなリソグラフィー技術であり,シリコン,金属,そして非平面基板の上に,cm²に渡る領域に残留層なしでマイクロやナノ高分子構造の転写が行えることを,この研究で示す。我々は疎水性を有するフレキシブルなポリジメチルシロキサンの印刷版を使用した。そして,シリコン,ニッケルさらに予備的にパターン形成された基板上に,商用ポリ(メタクリル酸メチル)熱可塑性重合体を用いて残留層なしでパターン印刷できることを示した。我々の多用途に使える印刷技術は任意な形状のナノ構造形成に適用可能であり,接着技術と結びついている。Copyright 2015 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語：

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