文献

J-GLOBAL ID：201502278147928138   整理番号：15A0365650

silicalite-1膜を用いた加圧条件下でのキシレン異性体分離における希釈ガス添加効果の検討

著者 (5件)： 酒井求 (早大 先進理工) ,  金子拓矢 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工総研) ,  松方正彦 (JST-CREST)
資料名： ゼオライト研究発表会講演予稿集
巻： 30th  ページ： 87  発行年： 2014年11月26日 
JST資料番号： L1365A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ酸塩 ,  加圧 ,  アルキルベンゼン ,  異性体 ,  *膜分離 ,  希薄気体 ,  添加物効果 ,  透過率 ,  水素 ,  種結晶 ,  支持物 ,  水熱合成 ,  結晶化 ,  *無機分離膜 ,  モル比 ,  混合液体 ,  分離係数 ,  吸着 ,  細孔 ,  圧力効果 ,  選択透過膜 ,  *膜

分類 (2件)： 吸着剤  (YB03000W) ,  膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (3件)： m-キシレン ,  p-キシレン ,  o-キシレン

タイトルに関連する用語 (5件)： 加圧 ,  キシレン ,  異性体分離 ,  希釈ガス ,  添加効果