特許

J-GLOBAL ID：201503000278794524

リラキシンの製造方法

発明者： 岩岡 道夫 ,  野口 将人 ,  荒井 堅太 ,  安東 勢津子 ,  上原 吉就
出願人/特許権者： 学校法人東海大学 ,  学校法人福岡大学
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-036549
公開番号（公開出願番号）：特開2015-160825
出願日： 2014年02月27日
公開日（公表日）： 2015年09月07日
要約：

【課題】有害な不純物を含むことなく、研究用並びに臨床用に供しうる高い純度のリラキシンを合理的な合成工程ならびに単純な精製プロセスで安価に供給することができる、リラキシンの製造方法を提供すること。【解決手段】(1)リラキシンの還元型ペプチドA鎖のシステイン残基のスルファニル基(SH)の一部を酸化剤によりジスルフィド結合(S-S)に変換する工程、及び(2)上記工程(1)で得られたリラキシンのペプチドA鎖と、リラキシンの還元型ペプチドB鎖とを用いて酸化反応を行うことにより、リラキシンペプチドA鎖とリラキシンペプチドB鎖の間のジスルフィド結合を形成する工程を含む、リラキシンの製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(1)リラキシンの還元型ペプチドA鎖のシステイン残基のスルファニル基(SH)の一部を酸化剤によりジスルフィド結合(S-S)に変換する工程、及び (2)上記工程(1)で得られたリラキシンのペプチドA鎖と、リラキシンの還元型ペプチドB鎖とを用いて酸化反応を行うことにより、リラキシンペプチドA鎖とリラキシンペプチドB鎖の間のジスルフィド結合を形成する工程 を含む、リラキシンの製造方法。

IPC (1件)：

C07K 14/64

FI (1件)：

C07K14/64

Fターム (8件)：

4H045AA10 ,  4H045AA20 ,  4H045BA10 ,  4H045CA40 ,  4H045DA30 ,  4H045EA20 ,  4H045FA10 ,  4H045FA33