高分子材料解析方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人安富国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-001831
公開番号（公開出願番号）：特開2015-129708
出願日： 2014年01月08日
公開日（公表日）： 2015年07月16日
要約：

【課題】簡便に、高分子材料中に含まれる無機化合物や高分子材料中で反応により生成した無機化合物の構造解析や同定が可能な高分子材料解析方法を提供する。【解決手段】高分子材料に高輝度X線を照射して、X線散乱測定又はX線回折測定と、X線吸収量測定とを同一の光学配置でサンプルの交換を経ることなく実施し、該高分子化合物に環境変化を与えながら、該高分子材料中に含まれる無機化合物及び/又は該高分子材料中で反応により生成した無機化合物を解析する高分子材料解析方法に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

高分子材料に高輝度X線を照射して、X線散乱測定又はX線回折測定と、X線吸収量測定とを同一の光学配置でサンプルの交換を経ることなく実施し、該高分子化合物に環境変化を与えながら、該高分子材料中に含まれる無機化合物及び/又は該高分子材料中で反応により生成した無機化合物を解析する高分子材料解析方法。

IPC (2件)：

G01N 23/20 , G01N 23/06

FI (2件)：

G01N23/20 , G01N23/06

Fターム (16件)：

2G001AA01 , 2G001BA04 , 2G001BA11 , 2G001BA13 , 2G001BA14 , 2G001BA18 , 2G001CA01 , 2G001DA08 , 2G001DA09 , 2G001GA01 , 2G001GA09 , 2G001JA02 , 2G001KA01 , 2G001KA08 , 2G001KA12 , 2G001LA05

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭61-002050
X線複合分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-186714 出願人：株式会社日立製作所
X線回折及びコンピュータトモグラフィ
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-030013 出願人：パナリティカルビーヴィ

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