特許
J-GLOBAL ID：201503001728343540
分光システムの性能を測定するための方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 谷・阿部特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-503937
公開番号（公開出願番号）：特表2015-512522
出願日： 2013年04月02日
公開日（公表日）： 2015年04月27日
要約：
分光システムの性能を測定する方法が、システムによって識別しようとする成分のセットの各成分について複数の成分スペクトルを得ることを含み、成分スペクトルが、成分スペクトルに影響を及ぼす少なくとも1つの要因の変動について得られる。次いで、試料スペクトルがシミュレーションされ、各試料スペクトルは、対応する潜在的な試料について、少なくとも1つの異なる成分スペクトル、および/または他の試料スペクトルをシミュレーションするために使用されるものに対して異なる量の成分スペクトルの少なくとも1つを使用してシミュレーションされる。各試料スペクトルについて、対応する潜在的な試料の特徴について測定された量および/または質を得るために試料スペクトルが解析され、測定された量および/または質に基づいて性能の測定値が生成される。また、本発明は、この方法を実施するための装置に関する。
請求項（抜粋）：
分光システムの性能を測定する方法であって、
a)前記システムによって識別しようとする成分のセットの各成分について複数の成分スペクトルを得るステップであって、前記成分スペクトルが、前記成分スペクトルに影響を及ぼす少なくとも1つの要因の変動について得られる、該ステップと、
b)試料スペクトルをシミュレーションするステップであって、各試料スペクトルが、少なくとも1つの異なる成分スペクトルおよび/または他の試料スペクトルをシミュレーションするために使用されるものに対して異なる量の前記成分スペクトルの少なくとも1つを使用して、対応する潜在的な試料についてシミュレーションされる、該ステップと、
c)各試料スペクトルについて、前記対応する潜在的な試料の特徴について測定された量および/または質を得るために前記試料スペクトルを解析するステップと、
d)前記測定された量および/または質に基づいて性能の測定値を生成するステップと
を備えたことを特徴とする方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
2G043AA01
, 2G043EA03
, 2G043FA07
, 2G043LA01
, 2G043MA01
, 2G043NA01
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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