偏光分離素子の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：龍華国際特許業務法人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-548681
公開番号（公開出願番号）：特表2015-502581
出願日： 2012年12月21日
公開日（公表日）： 2015年01月22日
要約：

本発明は、偏光分離素子の製造方法、偏光分離素子、光照射装置、光の照射方法及び整列された光配向膜の製造方法に関する。本発明の偏光分離素子の製造方法は、製造工程が単純であり、製造コストが安くて、大面積で紫外線偏光分離素子を製造することが容易である。また、本発明の偏光分離素子は、紫外線及び熱に対する耐久性に優れていて、偏光特性のピッチ依存性が低くて、製造工程が容易であると共に、短波長領域でも優れた偏光度を具現することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の上に300nmの波長の光に対する屈折率が1〜10であり、吸光係数が0.5〜10である凸部を溶液工程で形成する、紫外線偏光分離素子の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/30 , G02F 1/133

FI (4件)：

G02B5/30 , G02F1/1335 510 , G02F1/1337 520 , G02F1/13363

Fターム (19件)：

2H149AA21 , 2H149BA04 , 2H149BA22 , 2H149BB28 , 2H149FA41W , 2H149FD46 , 2H191FA28X , 2H191FA28Z , 2H191FA30X , 2H191FA30Z , 2H191FC10 , 2H191FC36 , 2H191GA01 , 2H191GA08 , 2H191LA40 , 2H191MA20 , 2H191PA44 , 2H290BF24 , 2H290BF92

引用特許：

審査官引用 (8件)

偏光子薄膜及びこの製作方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2009-524759 出願人：エーピーアイナノファブリケーションアンドリサーチコーポレーション
光学素子の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-034369 出願人：セイコーエプソン株式会社
ゾル-ゲル層を有する製品の表面構造化の方法、構造化されたゾル-ゲル層を有する製品
公報種別：公表公報出願番号：特願2010-501571 出願人：サン-ゴバングラスフランス

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