特許
J-GLOBAL ID:201003065581162970
耐性を有し、無機的で、吸収性を有する紫外線グリッド偏光素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
小野 新次郎
, 社本 一夫
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 宮前 徹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-513282
公開番号(公開出願番号):特表2010-531467
出願日: 2008年03月03日
公開日(公表日): 2010年09月24日
要約:
【解決手段】 無機的、誘電性グリッド偏光機器(10,10b,10c,10d,10e,10f)は、基体(22)の上に配設された膜層(18a,18b)のスタック(14,14b,14c,14d,14e,14f)を有している。各膜層は、無機的であると共に誘電性を有する材料で形成されている。隣接膜層の各々は、異なる屈折率を有している。膜層のうちの少なくとも1つは、不連続であり、400nmよりも短い周期を有する平行リブ(30)の配列で構造性複屈折層(26)を形成している。構造性複屈折層とは異なる他の層は、紫外スペクトルに対して光学的吸収性を有する材料で形成されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
a)基体と、
b)前記基体の上側に配設された少なくとも2つの層のスタックと、
を備え、
c)前記少なくとも2つの層の各々は、無機的であると共に誘電性を有する材料で形成され、
d)前記少なくとも2つの層の隣接層は、異なる屈折率を有し、
e)前記少なくとも2つの層のうちの少なくとも1つは、不連続であり、概ね400nmよりも短い周期を有する平行リブの配列で、構造性複屈折層を形成しており、
f)前記少なくとも2つの層の他方は、前記構造性複屈折層とは異なり、紫外スペクトルに対して光学的吸収性のある材料で形成されて吸収層を規定する、
ことを特徴とする吸収性、紫外域、無機的及び誘電性グリッド偏光機器。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (11件):
2H048CA05
, 2H048CA13
, 2H048CA19
, 2H149AA02
, 2H149AB06
, 2H149BA02
, 2H149BA04
, 2H149BA23
, 2H149BB28
, 2H149FA41W
, 2H149FC08
引用特許:
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