特許
J-GLOBAL ID：201503003075654181
透明な基板のための高度に透明な水素化炭素保護コーティングの生産方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 岡野 大和
, 石井 裕充
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-520710
公開番号（公開出願番号）：特表2015-528056
出願日： 2013年07月05日
公開日（公表日）： 2015年09月24日
要約：
例えば水素化ダイヤモンド状炭素等の透明かつクリアな水素化炭素膜を蒸着するための物理蒸着法(PVD)チャンバを提供する。チャンバボディはチャンバボディ内に真空状態を維持するように構成され、チャンバボディはその側壁上に開口部を有する。側壁にはオリフィスを有するプラズマケージを、オリフィスと開口部とが重なり合うように取り付ける。プラズマケージ内の陰極上に2つのスパッタリングターゲットを配置し、これらは互いに対向して配置され、それらの間にプラズマが維持され、及び、プラズマケージ内にプラズマが閉じ込められるように構成される。ケージ内のプラズマがターゲットから材料をスパッタリングし、これがオリフィス及び開口部を経て基板上に到達する。プロセス中においては、パスバイさせる態様(pass-by fashion、通過させる態様)で基板を連続的に動かす。
請求項（抜粋）：
水素化炭素膜を蒸着するための物理蒸着法(PVD)チャンバであって、
チャンバボディ内に真空状態を維持するように構成されたチャンバボディであって、入口穴部と出口穴部と開口部を有する第1の側壁とを有するチャンバボディと、
前記入口穴部上に配置された入口弁と、
前記出口穴部上に配置された出口弁と、
オリフィスを有するプラズマケージであって、前記プラズマケージは前記オリフィスと前記開口部とが重なり合うように前記チャンバボディの外側にマウントされており、前記プラズマケージは互いに対向して配置された少なくとも2つのスパッタリングターゲットを有するとともに前記プラズマケージ内にプラズマが閉じ込められるようにしてそれらの間に前記プラズマが維持されるように構成されている、プラズマケージと、
前記プラズマケージ内にプロセスガスを注入するためのガス注入器と、
前記ガス注入器に連結された水素ガス及びアルゴンガスのソースと、
前記スパッタリングターゲットに電力を印加するパワーアプリケータと
を備える、PVDチャンバ。
IPC (3件)：
C23C 14/06
, C23C 14/34
, C23C 14/35
C23C14/06 F
, C23C14/34 D
, C23C14/35 Z
2K009AA15
, 2K009CC01
, 2K009DD04
, 4G059AA06
, 4G059AC16
, 4G059EA11
, 4G059EB04
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA34
, 4K029BB04
, 4K029CA06
, 4K029DA04
, 4K029DC03
, 4K029DC16
, 4K029DC32
, 4K029DC34
, 4K029DC39
, 4K029DC43
, 4K029EA09
, 4K029KA01
, 4K029KA09
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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