特許
J-GLOBAL ID：201503003174259820
超伝導高周波空洞の電気化学システム及び電解研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
末成 幹生
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-521621
公開番号（公開出願番号）：特表2015-528059
出願日： 2013年06月11日
公開日（公表日）： 2015年09月24日
要約：
フッ化水素酸不含低粘度電解質溶液と、この電解質溶液と接触している電極と、電極から離間し、電解質溶液及び電源と接触している超伝導高周波空洞とを含み、電源は電極に電気的に接続された第1電線と、空洞に電気的に接続された第2電線とを備え、電極と加工物との間に電流を流すように形成され、電流はアノードパルスとカソードパルスとを含み、カソードパルスはアノードパルスの少なくともいくつかの間に挿入される超伝導高周波(SCRF)空洞用の電気化学的仕上げシステム。超伝導高周波空洞は仕上げ加工の際に垂直に向けられている。
請求項（抜粋）：
超伝導高周波空洞内に電極を配置する工程と、
前記電極に対して前記超伝導高周波空洞を垂直に向ける工程と、
硫酸水溶液を含み、フッ化水素酸を含むまず、15cP未満の粘度を有する電解質溶液を前記超伝導高周波空洞に充填する工程と、
前記超伝導高周波空洞と前記電極との間に電流を通す工程とを備え、
前記電流は、複数のアノードパルスと複数のカソードパルスとからなり、
前記カソードパルスは、前記アノードパルスの少なくともいくつかの間に挿入されることを特徴とする超伝導高周波空洞を電解研磨する方法。
IPC (6件)：
C25F 3/26
, C25F 3/16
, B23H 3/02
, B23H 3/10
, B23H 3/08
, B23H 9/00
C25F3/26
, C25F3/16 C
, B23H3/02 Z
, B23H3/10 A
, B23H3/08
, B23H9/00 A
3C059AA02
, 3C059BB09
, 3C059CG02
, 3C059CG08
, 3C059DA07
, 3C059EA02
, 3C059EB02
, 3C059HA01
, 3C059HA03
, 3C059JA05
