特許
J-GLOBAL ID:200903047060134776
電解加工装置及び電解加工方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
渡邉 勇
, 堀田 信太郎
, 小杉 良二
, 森 友宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-196419
公開番号(公開出願番号):特開2004-216542
出願日: 2003年07月14日
公開日(公表日): 2004年08月05日
要約:
【課題】薬液を使用することなく電解加工を行うことができ、さらには、被加工物の不良品化を招くと考えられるピットの発生を効果的に防止することができる電解加工装置及び電解加工方法を提供する。【解決手段】加工電極3と、被加工物10に給電する給電電極2と、被加工物10と加工電極3との間又は被加工物10と給電電極2との間の少なくとも一方に配置されたイオン交換体5と、加工電極3と給電電極2との間にパルス電圧を印加する電源15と、被加工物10と加工電極3又は給電電極2の少なくとも一方との間に液体6を供給する液体供給部(液槽)11とを有する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
加工電極と、
被加工物に給電する給電電極と、
被加工物と前記加工電極との間又は被加工物と前記給電電極との間の少なくとも一方に配置されたイオン交換体と、
前記加工電極と前記給電電極との間にパルス電圧を印加する電源と、
被加工物と前記加工電極又は前記給電電極の少なくとも一方との間に液体を供給する液体供給部と、を備えたことを特徴とする電解加工装置。
IPC (3件):
B23H3/02
, B23H9/00
, H01L21/3205
FI (3件):
B23H3/02 Z
, B23H9/00 Z
, H01L21/88 K
Fターム (21件):
3C059AA02
, 3C059AB01
, 3C059BB02
, 3C059BB09
, 3C059CG02
, 3C059CG04
, 3C059CG06
, 3C059CG07
, 3C059EA00
, 3C059EA02
, 3C059EA10
, 3C059HA03
, 5F033HH11
, 5F033MM01
, 5F033PP27
, 5F033RR21
, 5F033WW00
, 5F033WW04
, 5F033WW08
, 5F033XX00
, 5F033XX01
引用特許: