特許
J-GLOBAL ID:201503003739659526

パターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 正林 真之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-029058
公開番号(公開出願番号):特開2015-194720
出願日: 2015年02月17日
公開日(公表日): 2015年11月05日
要約:
【課題】低露光量で、所望する断面形状のレジストパターンを形成することができ、且つ、耐薬品性に優れるパターンを形成できる、ポジ型の感光性樹脂組成物を用いるパターン形成方法を提供すること。【解決手段】感光性樹脂組成物として、(D)加熱によりイミダゾール化合物を発生させる化合物を含有する物を用い、露光及び現像によりパターン化された感光性樹脂組成物からなる塗布膜中に、酸性基を有する成分が含まれる状態で、当該パターン化された塗布膜を所定の温度に加熱して、パターンを形成する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
露光されることでアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポジ型感光性樹脂組成物を、支持体上に塗布して塗布膜を形成する、塗布膜形成工程、 前記塗布膜を位置選択的に露光する、露光工程、 露光された前記塗布膜をアルカリ現像液により現像する、現像工程、及び、 現像によりパターン化された前記塗布膜をベークする、ベーク工程、 を含むパターン形成方法であって、 前記ポジ型感光性樹脂組成物が、(D)加熱により下記式(D1):
IPC (6件):
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  C09K 3/00
FI (7件):
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/40 502 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 571 ,  G03F7/20 501 ,  C09K3/00 K
Fターム (26件):
2H097HB03 ,  2H125AC44 ,  2H125AC45 ,  2H125AE13P ,  2H125AH06 ,  2H125AH07 ,  2H125AH12 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ04Y ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ63X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ64Y ,  2H125AM13P ,  2H125AM25P ,  2H125AM32P ,  2H125AN39P ,  2H125AN86P ,  2H125BA22P ,  2H125CA12 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H196AA25 ,  2H196BA11 ,  2H196HA01 ,  5F146LA18
引用特許:
審査官引用 (2件)

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