特許
J-GLOBAL ID:201503004131390024
光学シミュレーション方法およびそれを実行させるためのプログラム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山田 卓二
, 田中 光雄
, 竹内 三喜夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-040659
公開番号(公開出願番号):特開2015-166898
出願日: 2014年03月03日
公開日(公表日): 2015年09月24日
要約:
【課題】短時間で結果を得ることができる簡易な光学シミュレーション方法を提供する。【解決手段】光学シミュレーション方法では、凹部1を有するパッケージ2と、放射光を発生させる発光素子3と、凹部1に充填された光透過材料4とを備えた発光装置10において、x方向とy方向により規定される光透過面Tを透過して装置外部へ出射される放射光の強度についてシミュレーションを行う。この方法では、発光素子3を含むxz断面とyz断面でそれぞれ光線追跡を行い、光線追跡の結果に基づいて、光透過面Tを透過する放射光の強度についての1次元分布Hx,Vyを得た後、xz断面での1次元分布Hxとyz断面での1次元分布Vyとを乗算する。これにより、光透過面Tを透過する放射光の強度についての2次元分布が得られる。【選択図】図5
請求項(抜粋):
凹部を有するパッケージと、凹部の底面に載置されて放射光を発生させる発光素子と、凹部に充填された光透過材料とを備えた発光装置において、光透過材料が規定する光透過面を透過して発光装置の外部へ出射される放射光の強度についてシミュレーションを行う光学シミュレーション方法であって、光透過面は、互いに垂直なx方向とy方向により規定される矩形を組み合わせた形状であって、x方向とy方向に対して垂直な方向をz方向とし、
発光素子を含むxz断面とyz断面でそれぞれ、放射光に含まれる複数の光線について光線追跡を行う工程と、
発光素子を含むxz断面とyz断面でそれぞれ、光線追跡の結果に基づいて、光透過面を透過する放射光の強度についての1次元分布Hx,Vyを得る工程と、
xz断面での1次元分布Hxとyz断面での1次元分布Vyとを乗算し、光透過面を透過する放射光の強度についての2次元分布を得る工程と
を含むことを特徴とする光学シミュレーション方法。
IPC (2件):
FI (3件):
G06F17/50 612A
, G06F17/50 680A
, H01L33/00 430
Fターム (13件):
5B046JA04
, 5F142AA04
, 5F142AA12
, 5F142BA02
, 5F142BA24
, 5F142CA01
, 5F142CE02
, 5F142CE16
, 5F142CE17
, 5F142CG04
, 5F142CG05
, 5F142CG06
, 5F142HA03
引用特許: