特許
J-GLOBAL ID:201503004370980356
改質ヒュームドシリカを含む中間層
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
小野 新次郎
, 小林 泰
, 竹内 茂雄
, 山本 修
, 松山 美奈子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-141312
公開番号(公開出願番号):特開2013-241332
特許番号:特許第5819355号
出願日: 2013年07月05日
公開日(公表日): 2013年12月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】(1)ポリ(ビニルブチラール);および
(2)0.15から0.35ミクロンの平均凝集体長さを有し、アルキル化されている疎水性ヒュームドシリカを含む、
ポリマーシートを複数含み、
1%未満のヘーズ値を有する、多層グレージングにおいて使用するための中間層。
IPC (7件):
C03C 27/12 ( 200 6.01)
, B32B 17/10 ( 200 6.01)
, B32B 27/20 ( 200 6.01)
, B32B 27/30 ( 200 6.01)
, C08K 9/04 ( 200 6.01)
, C08J 5/18 ( 200 6.01)
, C08L 101/00 ( 200 6.01)
FI (7件):
C03C 27/12 K
, B32B 17/10
, B32B 27/20 Z
, B32B 27/30 102
, C08K 9/04
, C08J 5/18
, C08L 101/00
引用特許:
出願人引用 (4件)
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疎水性シリカの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-074815
出願人:株式会社トクヤマ
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異種合わせガラス
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-151160
出願人:積水化学工業株式会社
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特開昭62-158745