特許
J-GLOBAL ID：201503006554637568

研磨液組成物の製造方法

発明者：
米田 康洋

米田 康洋 について

, 
佐藤 寛司

佐藤 寛司 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-272949
公開番号（公開出願番号）：特開2015-127365
出願日： 2013年12月27日
公開日（公表日）： 2015年07月09日
要約：
【課題】基板表面の研磨処理における、コロイダルシリカを含有する被処理シリカ分散液中の粗大粒子やゲル化物の効率的な除去を可能とすることにより、濾過精度が高く、研磨後の基板表面のスクラッチ数を低減可能とする、研磨液組成物の製造方法を提供する。【解決手段】コロイダルシリカを含有する被処理シリカ分散液を、濾過助剤を含むフィルタで濾過処理する工程含み、前記コロイダルシリカの滴定法によって求められる一次粒子の平均粒子径が1nm以上50nm以下であり、前記濾過助剤の鉄含量が0.38質量%未満である、研磨液組成物の製造方法。濾過助剤としては珪藻土が好ましく、濾過助剤中のアルミニウムの含有量は0.68質量%未満が好ましい。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
コロイダルシリカを含有する被処理シリカ分散液を、濾過助剤を含むフィルタで濾過処理する工程含み、 前記コロイダルシリカの滴定法によって求められる一次粒子の平均粒子径が1nm以上50nm以下であり、 前記濾過助剤の鉄含量が0.38質量%未満である、研磨液組成物の製造方法。
IPC (7件)：
C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  B24B 1/00 ,  H01L 21/304 ,  C09G 1/02 ,  C03C 19/00 ,  G11B 5/84
FI (8件)：
C09K3/14 550D ,  B24B37/00 H ,  B24B1/00 D ,  H01L21/304 622D ,  C09K3/14 550Z ,  C09G1/02 ,  C03C19/00 Z ,  G11B5/84 A
Fターム (27件)：
3C049AA07 ,  3C049CA05 ,  3C049CA06 ,  3C049CA07 ,  3C058AA07 ,  3C058CA05 ,  3C058CA06 ,  3C058CA07 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  4G059AA08 ,  4G059AC03 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14 ,  5F057AA03 ,  5F057AA28 ,  5F057BA11 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA07 ,  5F057EA21 ,  5F057EA31
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM