特許
J-GLOBAL ID：201503006784877699
描画装置及び物品の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-134210
公開番号（公開出願番号）：特開2015-012035
出願日： 2013年06月26日
公開日（公表日）： 2015年01月19日
要約：
【課題】 複数の荷電粒子光学系での描画データの共通化に有利な描画装置を提供する。【解決手段】 描画装置は、第1方向に沿って配置された複数の荷電粒子光学系と、前記第1方向において各荷電粒子光学系による前記基板上の描画領域を分割して得られるサブ描画領域を単位として、前記複数の荷電粒子光学系により共用される描画データを格納する格納部と、前記第1方向における前記複数の荷電粒子光学系の間隔に基づいて、前記複数の荷電粒子光学系それぞれによる前記基板上の描画領域を前記サブ描画領域の集合として決定し、各荷電粒子光学系による前記基板上の描画領域をそれに対応する前記サブ描画領域の集合に基づいて制御する制御部と、を備える。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
第1方向に沿って配置された複数の荷電粒子光学系と、
前記第1方向において各荷電粒子光学系による前記基板上の描画領域を分割して得られるサブ描画領域を単位として、前記複数の荷電粒子光学系により共用される描画データを格納する格納部と、
前記第1方向における前記複数の荷電粒子光学系の間隔に基づいて、前記複数の荷電粒子光学系それぞれによる前記基板上の描画領域を前記サブ描画領域の集合として決定し、各荷電粒子光学系による前記基板上の描画領域をそれに対応する前記サブ描画領域の集合に基づいて制御する制御部と、
を備えることを特徴とする描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, H01J 37/305
, G03F 7/20
H01L21/30 541W
, H01J37/305 B
, G03F7/20 504
2H097CA16
, 2H097LA10
, 5C034BB10
, 5F056AA15
, 5F056AA29
, 5F056AA33
, 5F056AA35
, 5F056CB05
, 5F056CD16
, 5F056EA03
, 5F056EA06
