特許
J-GLOBAL ID：200903010487660958

荷電粒子線露光方法、荷電粒子線露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
村木 真人

村木 真人 について

, 
細田 真希

細田 真希 について

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安藤 公明

安藤 公明 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について

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株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (2件)： 伊東 哲也 ,  齋藤 和則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-194769
公開番号（公開出願番号）：特開2006-019434
出願日： 2004年06月30日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 繋ぎが確実に行え、所望パターンを露光できる荷電粒子線露光方法を提供する。【解決手段】 複数の荷電粒子線を基板上の互いに異なる位置に入射させ、前記複数の荷電粒子線を偏向する偏向器によって定められる各荷電粒子線の要素露光領域内で、荷電粒子線を偏向させるとともに、各荷電粒子線の照射を制御することによって、前記基板上の複数の前記要素露光領域内にパターンを露光する荷電粒子線露光方法において、前記要素露光領域同士が隣接する部分では要素露光領域を重複させて露光する多重露光領域を設定する段階と、前記多重露光領域において、どちらか一方の前記要素露光領域にのみ存在するパターンは、多重露光しない段階とを有する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
複数の荷電粒子線を基板上の互いに異なる位置に入射させ、前記複数の荷電粒子線を偏向する偏向器によって定められる各荷電粒子線の要素露光領域内で、荷電粒子線を偏向させるとともに、各荷電粒子線の照射を制御することによって、前記基板上の複数の前記要素露光領域内にパターンを露光する荷電粒子線露光方法において、 前記要素露光領域同士が隣接する部分では前記要素露光領域を重複させて露光する多重露光領域を設定する段階と、 前記多重露光領域において、どちらか一方の前記要素露光領域にのみ存在するパターンは、多重露光しない段階と を有することを特徴とする荷電粒子線露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2件)：
H01L21/30 541J ,  G03F7/20 504
Fターム (10件)：
2H097AA11 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  2H097LA15 ,  2H097LA20 ,  5F056CB11 ,  5F056CC09 ,  5F056CD16 ,  5F056EA06
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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