特許
J-GLOBAL ID:201503007973512879

流体濾過のための装置、システムおよび方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 舛谷 威志 ,  中尾 洋之 ,  黒田 仁志 ,  加藤 慎司 ,  有馬 百子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-516702
公開番号(公開出願番号):特表2015-521535
出願日: 2013年06月11日
公開日(公表日): 2015年07月30日
要約:
本開示は、いくつかの実施形態によれば、フィード組成物(例えば、流体)からの1つ以上の重金属(例えば、重金属、クロム、リン、リン化合物、窒素、窒素化合物)の還元および/または除去のための装置、システムおよび方法に関する。装置、システムおよび方法は、いくつかの実施形態において、汚染流体を含む汚染物質がほとんど発生しない様態で流体の汚染除去を行うよう動作可能である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
汚染物質を含む取込流体から前記汚染物質を除去するための汚染除去システムであって、 (a)流体リアクターであって、 (i)前記取込流体を受容し、 (ii)前記汚染物質を吸着剤と結合させて汚染物質吸着物質を形成し、 (iii)前記汚染物質吸着物質を含む流体リアクター出力ストリームを形成するよう構成された前記流体リアクターと、 (b)触媒回収ユニット(CRU)であって、 (i)前記触媒回収ユニットのCRU不透過部およびCRU透過部を規定するCRU多孔性膜を含み、 (ii)前記CRU多孔性膜の前記CRU不透過部中において前記流体リアクター出力ストリームを受容し、前記流体リアクター出力ストリームを、 前記汚染物質吸着物質を含む、前記触媒回収ユニットの前記CRU不透過部中のCRU不透過物と、 前記汚染物質を実質的に含まない、前記触媒回収ユニット中の前記CRU透過部中のCRU透過物と、に分画するよう構成され、 前記CRU不透過部は、前記取込ストリームと流体連通し、CRU濾過物は第1の排出ストリームを形成する、前記触媒回収ユニット(CRU)と、 (c)汚染物質濃縮モジュール(DeWRS)であって、 (i)前記触媒回収ユニットの前記CRU不透過部と流体連通し、 (ii)垂直姿勢で配置され、前記汚染物質濃縮モジュールのDeWRS不透過部およびDeWRS透過部を規定するDeWRS多孔性膜を含み、 (iii)前記CRU不透過物の少なくとも一部を前記汚染物質濃縮モジュールの前記DeWRS不透過部中において受容し、前記CRU不透過物を、 前記汚染物質吸着物質を含む、前記汚染物質濃縮モジュールの前記DeWRS不透過部中のDeWRS不透過物と、 前記汚染物質を実質的に含まない、前記汚染物質濃縮モジュールの前記DeWRS透過部中のDeWRS透過物と、に分画するよう構成され、 DeWRS濾過物は、第2の排出ストリームを形成し、 (iv)前記DeWRS不透過物中の前記汚染物質吸着物質を、前記DeWRS多孔性膜の下側に配置された汚染物質トラップ中に沈降させ、汚染物質トラップスラグを形成するよう構成された、前記汚染物質濃縮モジュール(DeWRS)と、 (d)酸性組成物または塩基性組成物を収納する第1の保存タンクと、 (e)汚染物質濃縮ミキサータンク(DeWMT)であって、 (i)前記汚染物質濃縮モジュールの前記DeWRS不透過部および前記第1の保存タンクと流体連通し、 (ii)前記汚染物質濃縮ミキサータンクのDeWMT不透過部およびDeWMT透過部を規定するDeWMT多孔性膜を含み、 (iii)前記DeWRS不透過物の少なくとも一部を前記汚染物質濃縮ミキサータンクの前記DeWMT不透過部中において受容し、前記受容されたDeWRS不透過物を、 前記汚染物質吸着物質を含む、前記汚染物質濃縮ミキサータンクの前記DeWMT不透過部中のDeWMT不透過物と、 前記汚染物質を実質的に含まない、前記汚染物質濃縮ミキサータンクの前記DeWMT透過物部中のDeWMT透過物と、に分画し、 DeWMT濾過物は、第3の排出ストリームを形成し、 前記第1の保存タンクから前記汚染物質濃縮ミキサータンクの前記DeWMT不透過部内に、一定量の前記酸性組成物を受容し、 前記汚染物質濃縮ミキサータンクの前記DeWMT不透過部の内容物を混合して、前記吸着剤からの前記汚染物質の離脱を発生させて、離脱汚染物質ストリーム、離脱吸着剤ストリームおよび任意選択的に残留汚染物質吸着物質を形成し、 前記任意選択の残留汚染物質吸着物質が存在する場合、前記任意選択の残留汚染物質吸着物質を前記第1の保存タンクへ搬送するよう構成された、前記汚染物質濃縮ミキサータンク(DeWMT)と、 (f)前記離脱吸着剤ストリームおよび前記取込ストリームと流体連通するクリーン吸着剤保存タンクと、 (g)第2の保存タンク流体を収納する第2の保存タンクであって、(i)前記第1の保存タンクが酸性組成物を収納する場合に塩基を含む、または(ii)前記第1の保存タンクが塩基性組成物を収納する場合に酸を含む、前記第2の保存タンクと、 (h)前記離脱汚染物質ストリームおよび前記第2の保存タンクと流体連通するリンスタンクであって、前記離脱汚染物質ストリームおよび前記第2の保存タンク流体を受容および混合して、汚染物質沈殿物およびリンスタンク上清を形成し、 前記リンスタンク上清は、第4の排出ストリームを形成するよう構成された、前記リンスタンクと、を含む汚染除去システム。
IPC (10件):
C02F 1/44 ,  B01D 71/02 ,  B01D 65/02 ,  C02F 1/28 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/70 ,  C02F 1/72 ,  C02F 9/00 ,  C02F 1/32 ,  B01J 38/00
FI (19件):
C02F1/44 K ,  B01D71/02 ,  B01D65/02 ,  C02F1/28 E ,  C02F1/28 J ,  B01D61/58 ,  C02F1/70 B ,  C02F1/72 101 ,  C02F9/00 502G ,  C02F9/00 502N ,  C02F9/00 502H ,  C02F9/00 502Z ,  C02F9/00 503C ,  C02F9/00 503G ,  C02F9/00 504B ,  C02F9/00 504D ,  C02F1/32 ,  C02F9/00 502R ,  B01J38/00 301R
Fターム (64件):
4D006GA06 ,  4D006HA77 ,  4D006JA67Z ,  4D006JA71 ,  4D006KA01 ,  4D006KA52 ,  4D006KA54 ,  4D006KA57 ,  4D006KA72 ,  4D006KB04 ,  4D006KB12 ,  4D006KB30 ,  4D006KC02 ,  4D006KC03 ,  4D006KC12 ,  4D006KC14 ,  4D006KC16 ,  4D006KC19 ,  4D006KC27 ,  4D006KD11 ,  4D006KD30 ,  4D006KE03R ,  4D006KE11R ,  4D006KE16R ,  4D006MA02 ,  4D006MA06 ,  4D006MC03 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D037AA11 ,  4D037AB08 ,  4D037BA16 ,  4D037BB08 ,  4D037BB09 ,  4D037CA01 ,  4D037CA03 ,  4D050AA12 ,  4D050AB54 ,  4D050AB55 ,  4D050AB59 ,  4D050AB62 ,  4D050AB64 ,  4D050AB65 ,  4D050AB66 ,  4D050BC04 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD06 ,  4D050CA06 ,  4D050CA09 ,  4D050CA13 ,  4D624AA04 ,  4D624AB12 ,  4D624AB17 ,  4D624BA14 ,  4D624BB01 ,  4D624BC04 ,  4D624DA07 ,  4D624DB05 ,  4D624DB10 ,  4D624DB20 ,  4D624DB22 ,  4D624DB23
引用特許:
審査官引用 (5件)
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