特許
J-GLOBAL ID：201503009956241600

被処理物改質装置、印刷装置、印刷システムおよび印刷物の製造方法

発明者：
松本 博好

松本 博好 について

, 
中井 順二

中井 順二 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-021630
公開番号（公開出願番号）：特開2015-186914
出願日： 2015年02月05日
公開日（公表日）： 2015年10月29日
要約：
【課題】高品質な印刷物を製造すること。【解決手段】印刷装置(システム)の被処理物改質装置は、被処理物を搬送する搬送手段と、前記搬送手段による前記被処理物の搬送中に前記被処理物の表面にプラズマ処理を行うプラズマ処理手段と、前記プラズマ処理後の前記被処理物のpH値を測定する測定手段と、前記測定手段の測定結果に基づいて、前記プラズマ処理中の被処理物の搬送速度を変更するように前記搬送手段を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。【選択図】図14
請求項（抜粋）：
被処理物を搬送する搬送手段と、 前記搬送手段による前記被処理物の搬送中に前記被処理物の表面にプラズマ処理を行うプラズマ処理手段と、 前記プラズマ処理後の前記被処理物のpH値を測定する測定手段と、 前記測定手段の測定結果に基づいて、前記プラズマ処理中の被処理物の搬送速度を変更するように前記搬送手段を制御する制御手段と、 を備えることを特徴とする被処理物改質装置。
IPC (4件)：
B41J 2/01 ,  B01J 19/08 ,  B41M 5/00 ,  B41J 29/00
FI (7件)：
B41J2/01 127 ,  B01J19/08 E ,  B41M5/00 A ,  B41J29/00 G ,  B41J2/01 401 ,  B41J2/01 451 ,  B41J2/01 305
Fターム (31件)：
2C056EA04 ,  2C056EB13 ,  2C056EB29 ,  2C056EB35 ,  2C056EC12 ,  2C056EC28 ,  2C056EC31 ,  2C056EC70 ,  2C056EC72 ,  2C056HA41 ,  2C061AQ05 ,  2C061AR01 ,  2C061AS02 ,  2C061AS06 ,  2C061CJ01 ,  2H186AB01 ,  2H186BA11 ,  2H186DA14 ,  2H186FB25 ,  2H186FB54 ,  4G075AA01 ,  4G075AA61 ,  4G075AA65 ,  4G075BA05 ,  4G075CA47 ,  4G075DA01 ,  4G075DA02 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075EC25 ,  4G075FC15
引用特許：
出願人引用 (3件)

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