特許
J-GLOBAL ID：201503012822425803

導電膜形成用組成物、導電膜の製造方法、および、導電膜

発明者：
早田 佑一

早田 佑一 について

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本郷 悠史

本郷 悠史 について

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津山 博昭

津山 博昭 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-220201
公開番号（公開出願番号）：特開2015-129255
出願日： 2014年10月29日
公開日（公表日）： 2015年07月16日
要約：
【課題】優れた密着性および導電性を示す導電膜を形成することができる、分散安定性に優れた導電膜形成用組成物、および、上記導電膜形成用組成物を用いた導電膜の製造方法、並びに、上記製造方法により製造された導電膜を提供する。【解決手段】平均粒子径が100nm以下である酸化銅粒子(A)と、トリメチロールプロパン(B)と、周期律表の8〜11族からなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む金属触媒(C)とを含有する、導電膜形成用組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
平均粒子径が100nm以下である酸化銅粒子(A)と、トリメチロールプロパン(B)と、周期律表の8〜11族からなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む金属触媒(C)とを含有する、導電膜形成用組成物。
IPC (8件)：
C09D 1/00 ,  H01B 1/22 ,  H01B 13/00 ,  H01B 5/14 ,  B22F 9/24 ,  C23C 18/06 ,  C23C 18/08 ,  C09D 5/24
FI (8件)：
C09D1/00 ,  H01B1/22 A ,  H01B13/00 503C ,  H01B5/14 Z ,  B22F9/24 F ,  C23C18/06 ,  C23C18/08 ,  C09D5/24
Fターム (36件)：
4J038AA011 ,  4J038HA126 ,  4J038HA151 ,  4J038HA161 ,  4J038JA21 ,  4J038JC38 ,  4J038JC40 ,  4J038KA04 ,  4J038KA12 ,  4J038MA10 ,  4J038MA14 ,  4J038NA20 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  4J038PC08 ,  4K017AA02 ,  4K017AA08 ,  4K017BA02 ,  4K017BA03 ,  4K017DA01 ,  4K017DA07 ,  4K017EJ01 ,  4K017EJ02 ,  4K022AA16 ,  4K022BA08 ,  4K022BA35 ,  4K022DA06 ,  4K022DB19 ,  4K022DB30 ,  5G301DA23 ,  5G301DA42 ,  5G301DD02 ,  5G301DE01 ,  5G307GA06 ,  5G307GB02 ,  5G307GC02
引用特許：
審査官引用 (9件)
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