特許
J-GLOBAL ID：201503052433169169

導電膜形成用組成物、導電膜の製造方法、および、導電膜

発明者：
本郷 悠史

本郷 悠史 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-249188
公開番号（公開出願番号）：特開2015-105362
出願日： 2013年12月02日
公開日（公表日）： 2015年06月08日
要約：
【課題】酸素雰囲気に曝した場合であっても優れた密着性および導電性を示す導電膜を形成することができる、分散安定性に優れた導電膜形成用組成物、および、上記導電膜形成用組成物を用いた導電膜の製造方法、並びに、上記製造方法により製造された導電膜を提供する。【解決手段】平均粒子径が100nm以下である酸化銅粒子(A)と、多価アルコール(B)と、パラジウム塩またはパラジウム錯体(C)と、水(D)とを含有し、上記多価アルコール(B)の含有量に対する上記水(D)の含有量の割合(D/B)が、40〜90質量%である、導電膜形成用組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
平均粒子径が100nm以下である酸化銅粒子(A)と、多価アルコール(B)と、パラジウム塩またはパラジウム錯体(C)と、水(D)とを含有し、 前記多価アルコール(B)の含有量に対する前記水(D)の含有量の割合(D/B)が、40〜90質量%である、導電膜形成用組成物。
IPC (6件)：
C09D 5/24 ,  H01B 1/20 ,  H01B 13/00 ,  C09D 7/12 ,  H05K 1/09 ,  H01L 29/786
FI (7件)：
C09D5/24 ,  H01B1/20 A ,  H01B13/00 503C ,  C09D7/12 ,  H05K1/09 A ,  H05K1/09 D ,  H01L29/78 616V
Fターム (43件)：
4E351AA02 ,  4E351AA03 ,  4E351AA04 ,  4E351AA05 ,  4E351AA16 ,  4E351BB01 ,  4E351BB31 ,  4E351CC08 ,  4E351CC10 ,  4E351CC11 ,  4E351CC31 ,  4E351CC33 ,  4E351DD04 ,  4E351DD20 ,  4E351DD33 ,  4E351DD52 ,  4E351EE02 ,  4E351EE04 ,  4E351EE05 ,  4E351EE27 ,  4E351GG16 ,  4E351GG20 ,  4J038DD071 ,  4J038JA20 ,  4J038JA21 ,  4J038JC38 ,  4J038KA12 ,  4J038KA20 ,  4J038NA20 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  5F110DD01 ,  5F110HK08 ,  5F110HK32 ,  5F110HK42 ,  5F110QQ01 ,  5F110QQ06 ,  5G301DA23 ,  5G301DA31 ,  5G301DA32 ,  5G301DA42 ,  5G301DD01 ,  5G301DE01
引用特許：
審査官引用 (4件)
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