特許
J-GLOBAL ID:201503013494457561

ターゲット物体の表面の深さをプロファイリングするための装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人M&Sパートナーズ
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-512155
公開番号(公開出願番号):特表2015-524050
出願日: 2013年05月03日
公開日(公表日): 2015年08月20日
要約:
本発明は、レーザの2次元アレイ5と、ターゲット物体の表面の領域上に2次元の照明パターン31を投射するための光学デバイス15と、ターゲット物体の表面の領域上に投射された2次元のパターンの画像を取り込む画像取込デバイス10と、画像取込デバイスによって取り込まれた画像から、ターゲット物体の表面の2次元の領域の深さプロファイルを再構成するために、取り込まれた画像を処理するプロセッサ25と、を有する、ターゲット物体30の表面の深さをプロファイリングするための装置1に関する。
請求項(抜粋):
ターゲット物体の表面の深さをプロファイリングするための装置であって、前記装置は、 レーザの2次元アレイを有する第1光源と、 前記ターゲット物体の前記表面の領域上に2次元のマルチライン照明パターンを投射するための光学デバイスと、 前記ターゲット物体の前記表面の前記領域上に投射された2次元の前記照明パターンの画像を取り込む画像取込デバイスと、 前記画像取込デバイスによって取り込まれた前記画像から、前記ターゲット物体の前記表面の2次元の前記領域の深さプロファイルを再構成するために、取り込まれた前記画像を処理するプロセッサと、 を有し、 前記2次元アレイは複数の行を有し、少なくとも1つの行は隣接する行に対して横方向にオフセットされている、装置。
IPC (3件):
G01B 11/22 ,  H01S 5/42 ,  G01B 11/25
FI (3件):
G01B11/22 H ,  H01S5/42 ,  G01B11/25 H
Fターム (31件):
2F065AA04 ,  2F065AA06 ,  2F065AA25 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065BB15 ,  2F065CC16 ,  2F065FF01 ,  2F065FF09 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065GG15 ,  2F065GG18 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL04 ,  2F065LL08 ,  5F173AD04 ,  5F173AR23 ,  5F173AR99 ,  5F173MA10 ,  5F173MC01 ,  5F173MC26 ,  5F173MD65 ,  5F173MF39 ,  5F173SA33 ,  5F173SC10 ,  5F173SE02 ,  5F173SG01
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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