特許

J-GLOBAL ID：201503015998127409

ペリクル枠体及びペリクル

発明者： 矢野 浩平 ,  丸山 裕司 ,  クォン ソン-ヨン ,  クォン スン-ホ ,  クォン キョン-スン
出願人/特許権者： 旭化成イーマテリアルズ株式会社 ,  ドンウォン ハイ-テック コーポレーション リミテッド
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  西本 博之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-003665
公開番号（公開出願番号）：特開2015-132693
出願日： 2014年01月10日
公開日（公表日）： 2015年07月23日
要約：

【課題】高エネルギーの光の照射下においてもヘイズの発生を低減しつつ、露光中の散乱光による光劣化を抑制できると共に、異物検査に優れたペリクル枠体及びペリクルを提供する。【解決手段】ペリクル枠体2は、アルミニウム材で枠上に形成され、開口部4を覆うペリクル膜3を展張支持しており、アルミニウム材の表面には、遷移金属を含む酸化皮膜層Pが設けられており、遷移金属は、元素周期表の4族、5族、6族及び7族の少なくとも1種を含み、遷移金属の含有量が200ppm以上800ppm以下であり、L値が45以下である。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

アルミニウム材で枠状に形成され、開口部を覆う光学的薄膜体を展張支持するペリクル枠体であって、 前記アルミニウム材の表面には、遷移金属を含む酸化皮膜層が設けられており、 前記遷移金属は、元素周期表の4族、5族、6族及び7族の少なくとも1種を含み、 前記遷移金属の含有量が200ppm以上800ppm以下であり、 L値が45以下である、ペリクル枠体。

IPC (1件)：

G03F 1/64

FI (1件)：

G03F1/64

Fターム (4件)：

2H095BC37 ,  2H095BC38 ,  2H195BC37 ,  2H195BC38

引用特許：

審査官引用 (4件)

• リソグラフィ用ペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-250508   出願人：エムエスティテクノロジーカンパニー,リミテッド
• 耐光性に優れた低反射回路転写装置用防塵枠部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-069415   出願人：スカイアルミニウム株式会社
• ペリクル用支持枠の製造方法及びペリクル用支持枠並びにペリクル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-114417   出願人：日本軽金属株式会社, 信越化学工業株式会社
• 特許第5647189号