リソグラフィ用ペリクル

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)： ▲吉▼川俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-250508
公開番号（公開出願番号）：特開2010-107986
出願日： 2009年10月30日
公開日（公表日）： 2010年05月13日
要約：

【課題】ペリクルフレームの表面にプラズマ電解酸化法による酸化被膜を形成することによって、硫酸、窒酸、塩素、有機酸などによる無機系ガスの放出量を画期的に減少させることができるリソグラフィ用ペリクルを提供する。【解決手段】ペリクル膜と、前記ペリクル膜を支持するためのペリクルフレームとを含み、前記ペリクルフレームは、プラズマ電解酸化法によって酸化被膜が形成されたアルミニウム合金で製造されることを特徴とするリソグラフィ用ペリクルを構成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

リソグラフィ用ペリクルにおいて、ペリクル膜と、前記ペリクル膜を支持するためのペリクルフレームと、を含み、前記ペリクルフレームは、プラズマ電解酸化法(PEO:Plasma Electrolytic Oxidation)によって酸化被膜が形成されたアルミニウム合金で製造されることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。

IPC (1件)：

G03F 1/14

FI (1件)：

G03F1/14 K

Fターム (4件)：

2H095BA02 , 2H095BA06 , 2H095BB30 , 2H095BC37

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平1-120555
ペリクルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-095758 出願人：信越化学工業株式会社
ペリクル
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-164175 出願人：信越化学工業株式会社

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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