特許
J-GLOBAL ID：201503016855623045

酸性ガス分離用モジュール

発明者：
石塚 憲一

石塚 憲一 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  伊東 秀明 ,  三橋 史生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-006086
公開番号（公開出願番号）：特開2015-134310
出願日： 2014年01月16日
公開日（公表日）： 2015年07月27日
要約：
【課題】促進輸送膜と供給ガス流路用部材との擦れに起因する欠陥の発生を抑制し、目的とする性能を有するモジュールを安定して得ることができる酸性ガス分離用モジュールを提供する。【解決手段】原料ガスから酸性ガスを分離する、酸性ガスと反応するキャリアおよびキャリアを担持するための親水性化合物を含有する促進輸送膜と、促進輸送膜の表面に積層される保護層とを備える酸性ガス分離層を有し、保護層は、酸性ガス分離層中の最上層に形成されており、保護層のガス透過係数が、500Barrer以上であり、促進輸送膜は、ヒドロキシル基、カルボキシル基からなる群から選択される少なくとも1種を有し、かつ、保護層が、前記促進輸送膜中に含まれるカルボキシル基、ヒドロキシル基からなる群から選択される少なくとも1種と反応する官能基を有することにより、この課題を解決する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
水分を0.1mol%以上含有する原料ガスから、酸性ガスを選択的に分離する酸性ガス分離用モジュールであって、 原料ガスから酸性ガスを分離する、酸性ガスと反応するキャリアおよび前記キャリアを担持するための親水性化合物を含有する促進輸送膜と、前記促進輸送膜の表面に積層される保護層とを備える酸性ガス分離層を有し、 前記保護層は、酸性ガス分離層中の最上層に形成されており、 前記保護層のガス透過係数が、500Barrer以上であり、 前記促進輸送膜は、ヒドロキシル基、カルボキシル基からなる群から選択される少なくとも1種を有し、 かつ、前記保護層が、前記促進輸送膜中に含まれるヒドロキシル基、カルボキシル基からなる群から選択される少なくとも1種と反応する官能基を有すること特徴とする酸性ガス分離用モジュール。
IPC (5件)：
B01D 53/22 ,  B01D 63/10 ,  B01D 69/00 ,  B01D 71/70 ,  B01D 69/12
FI (5件)：
B01D53/22 ,  B01D63/10 ,  B01D69/00 500 ,  B01D71/70 500 ,  B01D69/12
Fターム (45件)：
4D006GA41 ,  4D006HA61 ,  4D006JA05A ,  4D006JA05C ,  4D006JA06A ,  4D006JA06C ,  4D006JA19A ,  4D006JA27A ,  4D006JA27C ,  4D006JB01 ,  4D006JB06 ,  4D006MA03 ,  4D006MA09 ,  4D006MA10 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB15 ,  4D006MB16 ,  4D006MB20 ,  4D006MC01 ,  4D006MC11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30X ,  4D006MC33X ,  4D006MC36X ,  4D006MC54 ,  4D006MC58 ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC65 ,  4D006MC75 ,  4D006MC78 ,  4D006MC90 ,  4D006NA44 ,  4D006NA46 ,  4D006NA63 ,  4D006NA64 ,  4D006NA73 ,  4D006PA05 ,  4D006PB64 ,  4D006PB65 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 二酸化炭素分離装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-012353   出願人：株式会社ルネッサンス・エナジー・リサーチ
  • 複合ガス分離膜とその製造法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-318097   出願人：ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション
  • ガス分離膜
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-077824   出願人：JX日鉱日石エネルギー株式会社, 一般財団法人石油エネルギー技術センター
審査官引用 (3件)
  • ガス分離膜
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-077824   出願人：JX日鉱日石エネルギー株式会社, 一般財団法人石油エネルギー技術センター
  • 二酸化炭素分離装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-012353   出願人：株式会社ルネッサンス・エナジー・リサーチ
  • 複合ガス分離膜とその製造法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-318097   出願人：ヘキスト・セラニーズ・コーポレーション

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