特許
J-GLOBAL ID：201503017432579607

分離再生装置および基板処理装置

発明者：
光 岡 一 行

光 岡 一 行 について

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大 野 広 基

大 野 広 基 について

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折 居 武 彦

折 居 武 彦 について

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戸 島 孝 之

戸 島 孝 之 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 勝沼 宏仁 ,  永井 浩之 ,  森 秀行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-050880
公開番号（公開出願番号）：特開2015-174014
出願日： 2014年03月13日
公開日（公表日）： 2015年10月05日
要約：
【課題】ウエハW上の液体を確実に除去することができ、かつ運転コストの低減を図り、Fイオンを除去する。【解決手段】分離再生装置は第1沸点をもつ第1のフッ素含有有機溶剤と、第1沸点より低い第2沸点をもつ第2のフッ素含有有機溶剤とを有する混合気体を生成する超臨界処理ユニット3と、第1沸点と第2沸点との間の温度をもつ温水34Wを収納するとともに、混合気体をこの温水34W中へ投入して、液体状の第1のフッ素含有有機溶剤と気体状の第2のフッ素含有有機溶剤とに分離する蒸留タンク34とを備えている。超臨界処理ユニット3からの混合気体を蒸留タンク34へ導く導入ライン50が設けられ、この導入ライン50の先端50aは温水34W中に配置されている。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
第1沸点をもつ第1のフッ素含有有機溶剤と、第1沸点より低い第2沸点をもつ第2のフッ素含有有機溶剤とを有する混合気体を生成する混合気体生成部と、 前記第1沸点と前記第2沸点との間の温度をもつ温水を収納するとともに、前記混合気体をこの温水中へ投入して、液体状の前記第1のフッ素含有有機溶剤と気体状の前記第2のフッ素含有有機溶剤とに分離する蒸留タンクと、を備え、 前記混合気体生成部からの前記混合気体を前記蒸留タンクへ導く導入ラインを設け、この導入ラインの先端を前記温水中へ配置して前記混合気体中のFイオンを除去することを特徴とする分離再生装置。
IPC (2件)：
B01D 5/00 ,  H01L 21/304
FI (5件)：
B01D5/00 E ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 651Z
Fターム (35件)：
4D076AA16 ,  4D076AA24 ,  4D076BB01 ,  4D076DA14 ,  4D076DA21 ,  4D076FA02 ,  4D076FA03 ,  4D076FA11 ,  4D076FA15 ,  4D076HA05 ,  4D076HA12 ,  4D076JA03 ,  5F157AA71 ,  5F157AA73 ,  5F157AA77 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB48 ,  5F157AB90 ,  5F157AC03 ,  5F157AC45 ,  5F157AC54 ,  5F157BB22 ,  5F157BC53 ,  5F157CB03 ,  5F157CB14 ,  5F157CB26 ,  5F157CC02 ,  5F157CF80 ,  5F157DA21 ,  5F157DB33 ,  5F157DC83 ,  5F157DC84 ,  5F157DC85
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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