特許

J-GLOBAL ID：201503017493582252

シロキサン化合物の製造方法

発明者： 海野 雅史 ,  佐藤 一彦 ,  島田 茂 ,  五十嵐 正安
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ,  国立大学法人群馬大学
代理人 (2件)： 平川 明 ,  石丸 竜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-076446
公開番号（公開出願番号）：特開2015-196672
出願日： 2014年04月02日
公開日（公表日）： 2015年11月09日
要約：

【課題】ヒドロシラン化合物の縮合反応の収率を改善し、効率良くシロキサン化合物を製造することができる方法を提供することを課題とする。【解決手段】ハロゲン化インジウム(InX3)やハロゲン化アンチモン(SbX3)を触媒として用いることによって、ヒドロシラン化合物を用いた縮合反応の収率を改善し、効率良くシロキサン化合物を製造することができる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(A-1)、(A-2)、又は(A-3)で表されるヒドロシラン化合物と下記式(B-1)、(B-2)、又は(B-3)で表されるシラン化合物とを反応させてシロキサン結合を形成する縮合工程を含むシロキサン化合物の製造方法であって、 前記縮合工程が、ハロゲン化インジウム(InX3)及びハロゲン化アンチモン(SbX3)からなる群より選択される少なくとも1種を触媒として用いる工程である、シロキサン化合物の製造方法。

IPC (1件)：

C07F 7/08

FI (1件)：

C07F7/08 X

Fターム (23件)：

4H039CA92 ,  4H039CD10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP02 ,  4H049VP03 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ78 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VS02 ,  4H049VS16 ,  4H049VS21 ,  4H049VT08 ,  4H049VT24 ,  4H049VV13 ,  4H049VV22 ,  4H049VW02 ,  4H049VW08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 金属酸化物コーティング
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-281374   出願人：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
• ヒドリドシランの不均化によるジオルガノシランの合成方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2008-519254   出願人：モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク