特許
J-GLOBAL ID：201503017835643798

標識を伴わない高コントラスト細胞撮像のための定量位相顕微鏡検査

発明者：
キム,エフジニア・ミハイロブナ

キム,エフジニア・ミハイロブナ について

, 
ヤズダンファー,シアヴァッシュ

ヤズダンファー,シアヴァッシュ について

, 
ディロフ,ドミトリー・ウラジミロヴィッチ

ディロフ,ドミトリー・ウラジミロヴィッチ について


出願人/特許権者：
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ について


代理人 (4件)： 荒川 聡志 ,  小倉 博 ,  黒川 俊久 ,  田中 拓人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-539558
公開番号（公開出願番号）：特表2015-534134
出願日： 2013年10月29日
公開日（公表日）： 2015年11月26日
要約：
本明細書に記述されるシステム及び方法は、試料により回折される光と、試料により回折されない光との間の各種の相対位相シフトによる複数の位相コントラスト画像を利用して定量位相画像を生成する。生成された定量位相画像は、細胞体及び核の、標識を伴わない自動セグメンテーションのための十分なコントラストを有し得る。【選択図】図24
請求項（抜粋）：
試料の位相コントラスト撮像システムであって、 a)試料を照明するための光源であって、第1のビームスプリッタが光源から少なくとも第1の光ビーム及び第2の光ビームを生成し、第1の光素子が、試料により回折されない第1の光ビームからの光を集光するように構成され、第2の光素子が、試料により回折される第2の光ビームからの光と、試料により回折されない第2の光ビームからの光とを集光するように構成される、光源と、 b)連続位相遅れを生成するために使用される少なくとも4つの装置であって、第1の光ビームが、連続位相遅れを生成するために使用される少なくとも4つの装置を通過することにより少なくとも4つの位相遅れに分割され、連続位相遅れを生成するための少なくとも4つの装置が、検出器と電子的に同期される、少なくとも4つの装置と、 c)連続位相表示を生成するために使用される少なくとも4つの装置を通過した後の第1の光ビームからの光を集光し、試料を通過した後の第2の光ビームからの光を後からさらに集光する検出器と、 d)同期装置であって、パルス発生器である同期装置と、 e)試料からの光及び非回折基準ビームを集光する第2のビームスプリッタと、 を備える、システム。
IPC (2件)：
G02B 21/00 ,  G01N 21/17
FI (2件)：
G02B21/00 ,  G01N21/17 A
Fターム (19件)：
2G059AA05 ,  2G059BB14 ,  2G059EE01 ,  2G059EE09 ,  2G059FF03 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ14 ,  2G059JJ22 ,  2G059KK04 ,  2G059MM01 ,  2H052AA03 ,  2H052AA04 ,  2H052AC05 ,  2H052AC14 ,  2H052AC27 ,  2H052AC34 ,  2H052AD34 ,  2H052AF14
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM